판매용 중고 ASML XT 1700FI #293606031

ASML XT 1700FI는 photolithography 응용 프로그램에 사용되는 웨이퍼 스테퍼입니다. 가변 모양 이미징 장비와 다이 포지션 (die position fiducial) 인식 시스템을 갖춘 매우 정확하고 정확도가 높은 기계입니다. 이 장치는 스캔 중 노출 필드의 분산을 최소화합니다. ASML XT1700FI는 프로세스 안정성 (process stability) 을 최소화하고, 입자 생성을 최소화하고, 작은 중요한 기능을 해결하는, 일정하고 반복 가능한 필드 깊이를 생산하도록 설계되었습니다. XT: 1700FI는 고출력, 정밀 광학 머신으로 제작되어 고밀도 및 미세한 라인 너비 리소그래피를 지원합니다. 이 도구는 두 개의 구성 요소, 즉 두 개의 링 광학 에셋과 빔 쉐이핑 모델로 구성됩니다. 2 고리 광학 장비는 파면 왜곡을 줄이기 위해 일정한 트랙 곡률을 사용하는 광학 대칭 시스템입니다. 빔 쉐이핑 장치 (beam-shaping unit) 는 파라메트릭 무구 (parametric aspheric) 및 축 간격 (axial spacing) 기술로 원치 않는 바람직하지 않은 오프 축 점을 줄임으로써 노출 필드의 모양을 제어합니다. XT1700FI에는 또한 자동화된 Zeemann Alignment 머신이 있어 레티클 왜곡 및 오정을 줄일 수 있습니다. 이 도구는 패턴 전송 중 나노미터 해상도의 이미지 변형을 수정하도록 설계되었습니다. ASML XT: 1700FI에는 조정 가능한 축삭, 조절 가능한 리타더 및 조정 가능한 초점 내 광학 모델로 구성된 필드 플랫 어셋 (field flattening asset) 이 장착되어 있어 고해상도, 고해상도 노출을 위해 필드 곡률 및 왜곡을 방지합니다. XT 1700FI에는 견고한 제어 장비가 장착되어 있어 시스템의 성능과 정확성을 보장합니다. 이 제어 장치는 사용자 친화적이고 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 와 고급 데이터 분석 알고리즘으로 설계되어 실시간 결과를 제공합니다. XT 1700 FI의 성능은 진동 분리 장치 (Vibration Isolation Machine), 백사이드 셔터 마스크 (Backside Shutter Mask) 및 웨이퍼 정렬기 (Wafer Aligner) 를 포함한 옵션 기능을 추가하여 더욱 높일 수 있습니다. 마지막으로, ASML XT 1700 FI는 안정성이 뛰어나며, 지속적으로 높은 성능으로 작동하도록 설계되었습니다. 이 기계는 광범위한 안전 시스템 (Safety System) 과 성능 진단 (Performance Diagnostics) 을 통해 공구 성능을 모니터링하고 제어하고 시간을 줄여줍니다.