판매용 중고 ASML XT 1250B #9383217

ASML XT 1250B는 반도체 산업의 석판화를 위해 설계된 웨이퍼 스테퍼입니다. 반도체 웨이퍼 (wafer) 에 대한 효과적인 패턴 전송을 제공하며, 장치 성능이 향상되고 생산성이 향상됩니다. 이 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 다양한 렌즈 기술을 사용하여 이미징 빔을 웨이퍼 표면에 정확하게 초점을 맞춰 패턴의 정확한 배치 및 복제를 허용합니다. ASML XT: 1250B 플랫폼은 EUV/DUV 및 다중 노출 필드와 같은 고급 렌즈 기술을 활용할 수 있습니다. 특허받은 듀얼 레벨 진공 시스템 (Dual-Level Vacuum System) 을 사용하여 유연한 장치 생산을 위해 다양한 기판 크기를 수용하는 이중 단계 웨이퍼 스테퍼입니다. 모듈식 (modular) 설계로 제작되어 대용량 생산을 위해 신속하게 구성하고 재구성할 수 있습니다. 또한 XT 1250B는 서브 미크론 고해상도 프로젝션 광학 시스템을 사용하여 0.2-1.2 µm 범위의 라인 너비의 패턴을 생성 할 수 있습니다. 이 웨이퍼 스테퍼에는 진공/차동 로딩 시스템 (vacuum/differential loading system) 및 카메라 자동 초점이 장착되어 있어 이미징 오브젝티브 렌즈와 카메라 렌즈를 고정밀 정렬을위한 독특한 구성으로 결합합니다. 입자 생성을 줄이고 단계 간 오염없는 이미징의 균형을 개선하도록 설계되었습니다. XT: 1250B는 또한 저소음 스테퍼 컨트롤러와 모터 드라이버 (motor driver) 를 갖추고 있으며, 정확한 기판 포지셔닝을 위해 시계내에서 신뢰할 수 있습니다. 또한 ASML XT 1250B 는 이미지 비교 및 측정 제어를 위해 이미지 처리 소프트웨어를 사용하여 집중적인 패턴 오버레이 (pattern overlay) 정렬을 실행할 수 있습니다. 이 기계는 고급 이미지 분석을 사용하여 배치 불일치를 줄이기 위해 설계되었습니다. 요약하면 ASML XT: 1250B는 리소그래피 용으로 설계된 강력한 웨이퍼 스테퍼입니다. 이중단계 디자인, 고급 이미징 광학 기술, 최적화된 센서 시스템을 통해 오염이 최소화되고 감지 정밀도가 개선된 정밀한 패턴을 만들 수 있습니다. 이 시스템의 고효율 프로세싱은 대용량 (high-volume) 운영 및 정밀한 디바이스 제작에 이상적입니다.