판매용 중고 ASML Twinscan NXT 2100i #293817834

ASML Twinscan NXT 2100i
ID: 293817834
Lithography system Numerical Aperture (NA): 1.35 Resolution: ≤38 nm DCO:  0.9 MMO: 1.3 Throughput (WPH): 295.
ASML Twinscan NXT 2100i는 최첨단 반도체 리소그래피 프로세스를 위해 설계된 고급 웨이퍼 스테퍼 장비입니다. 반도체 제조 업계에서 중요한 구성 요소로서, NXT 2100i는 고해상도와 정밀도를 갖춘 최첨단 집적회로 (IC) 의 생산을 가능하게 하는 데 중요한 역할을합니다. NXT 2100i (NXT 2100i) 는 혁신적인 기술과 높은 처리량을 자랑하며, 반도체 제조업체에게는 높은 생산성 (productivity) 을 달성하고 생산성 (production process) 을 제공하고자 하는 선택입니다. 이 웨이퍼 스테퍼 시스템 (Wafer Stepper System) 은 고급 노드에 대한 가장 까다로운 리소그래피 (Lithography) 요구 사항을 지원하여 탁월한 성능과 안정성을 제공하도록 설계되었습니다. NXT 2100i 의 주요 특징 중 하나는 고급 이미징 옵틱 (optics) 으로, 이 장치를 통해 웨이퍼에서 고해상도 (high resolution) 와 패턴 충실도 (pattern fidelity) 를 얻을 수 있습니다. 이 기계는 최첨단 조명 소스와 투영 광학을 활용하여 수차와 왜곡이 최소화된 고품질 이미지를 생성합니다. 이것 은 "웨이퍼 '에 인쇄 된" 패턴' 들 이 정확 하고 일관성 이 있으므로 고급 반도체 공정 의 엄격 한 요구 조건 을 충족 시킨다. 이미지 처리 기능 외에도, NXT 2100i 는 정교한 정렬 도구를 갖추고 있어 리소그래피 프로세스 (lithography process) 동안 오버레이 제어를 정확하게 수행할 수 있습니다. 에셋은 웨이퍼 (wafer) 의 고급 정렬 마크를 사용하여 여러 개의 회로 (layer of circuitry) 를 갖는 복잡한 반도체 장치를 생산할 수 있도록 다른 패턴 계층 간의 적절한 정렬을 보장합니다. 이 정확한 오버레이 제어 (overlay control) 는 엄격한 설계 공차를 달성하고 IC 의 기능 무결성을 보장하는 데 필수적입니다. 또한 NXT 2100i 에는 고속 스테이지 모델이 장착되어 있어 노출 중 웨이퍼를 빠르고 정확하게 포지셔닝할 수 있습니다 (영문). 장비의 스테이지는 나노 미터 이하의 정밀도 (sub-nanometer precision) 로 웨이퍼를 이동할 수 있으며, 최소한의 왜곡으로 미세한 기능을 인쇄 할 수 있습니다. 이 고속 스테이지 시스템 (High-Speed Stage System) 은 이 장치의 전반적인 처리량 및 생산성에 기여하며, 반도체 제조업체는 높은 생산량을 달성하고 높은 품질과 수율을 유지할 수 있습니다. NXT 2100i 의 또 다른 주요 기능은 고급 제어 소프트웨어로, 프로세스 모니터링, 최적화, 자동화를 위한 포괄적인 기능을 제공합니다. 이 기계의 소프트웨어는 리소그래피 (lithography) 프로세스를 실시간으로 모니터링할 수 있도록 설계되어 있어 성능 최적화를 위한 신속한 조정 및 수정 (correction) 이 가능합니다. 또한, 이 소프트웨어에는 노출 매개변수를 최적화하고, 프로세스 변형을 최소화하고, 수익률을 극대화하는 고급 알고리즘이 포함되어 있습니다. 전반적으로 Twinscan NXT 2100i는 고급 반도체 리소그래피 어플리케이션에 탁월한 성능과 안정성을 제공하는 최첨단 웨이퍼 스테퍼 툴입니다. NXT 2100i 는 첨단 이미징 옵틱 (optic), 정밀한 정렬 기능, 고속 스테이지 자산, 고급 제어 소프트웨어 등을 갖춘 반도체 제조업체가 최첨단 기술을 통해 고품질 IC를 생산하고자 하는 다용도 및 효율적인 툴입니다.
아직 리뷰가 없습니다