판매용 중고 ASML Twinscan AT 1150i #9112188

ASML Twinscan AT 1150i 웨이퍼 스테퍼는 반도체 산업에서 널리 사용되는 최첨단 리소그래피 기계입니다. 이 기계는 10 나노미터 미만의 작은 반점 크기를 가진 고해상도 광학 패턴 (optical pattern) 을 생성 할 수 있습니다. 1150i는 레이저 빔 (laser beam) 을 사용하여 웨이퍼에 패턴을 생성하는 프로젝션 형 스캐닝 머신입니다. "레이저 '광선 은 회전 하는 구형 의 거울 에서 처음 으로 반사 되는데, 이것 은" 빔' 을 일련 의 조그마 한 움직임 단계 에 초점 을 맞춘다. 스테이지 (stage) 는 레이저 빔을 미리 결정된 패턴으로 웨이퍼를 가로 질러 이동합니다. 웨이퍼는 5축 (5-axis) 단계로 마운트되어 임의의 방향으로 이동할 수 있습니다. "스테이지 '는 또한" 레이저' 가 표면 을 가로질러 스캔 되는 동안 "웨이퍼 '를 회전 시킬 수 있다. 이 기술을 통해 1150i 를 여러 노출 작업에 사용할 수 있으며, 단일 웨이퍼 (wafer) 에 여러 가지 패턴을 만들 수도 있습니다. 1150i는 스텝 앤 리피트 (step and repeat) 라는 기술을 사용하여 웨이퍼의 동일한 부분을 여러 번 스캔합니다. 이렇게 하면 한 번의 스캔으로 여러 레이어의 웨이퍼를 구성할 수 있습니다. 또한, 기계에는 레이저 빔의 초점이 즉석에서 조정 될 수있는 멀티 게이트 시스템 (multi-gate system) 이 있습니다. 1150i 는 또한 프로그래밍 가능한 제어 시스템 (programmable control system) 을 갖추고 있으며, 이를 통해 사용자는 기계가 작동하는 특정 속도와 가속 매개변수를 정의할 수 있습니다. 이 기능을 사용하면 처리량 (high throughput) 이나 패턴 복잡도 (low pattern complexity) 등 다양한 작업에 맞게 시스템을 최적화할 수 있으므로 생산성이 향상됩니다. 1150i 는 탁월한 스캐닝 (scanning) 기능 외에도 신속하게 데이터를 처리하여 빠르고 정확한 패턴 정의를 보장합니다. 이 시스템은 작업 정보를 10밀리초 이내로 신속하게 처리할 수 있으며, 또한 실시간 정렬 (real-time alignment) 기능도 제공합니다. 1150i는 효율적이고 신뢰할 수있는 기계로, 뛰어난 패턴 충실성과 균일성을 제공합니다. 강력한 설계 및 통합 기능을 통해 반도체 제조/연구/개발 요구 사항을 충족할 수 있습니다.