판매용 중고 ASML Twinscan AT 1100B #293816605
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ID: 293816605
웨이퍼 크기: 12"
빈티지: 2002
ArF Scanner, 12"
X-Y Coil ATC assembly
RH Fame fiber
Optic sensor
WS Type 1
(2) Airbearing center LSY Slides, X WS AT
RETICLE BA‑XY‑13X19
RETICLE BE‑FOCAL‑200N
LSY Slide X WS AT
(2) Water circuit wafer filters, 30 µm
ACC Controller
Memory card
Filter
Water circuit filter
Water circuit filling filter
Laser
Optic
Light‑source replacement
Wavelength : 193 nm
Resolution : ≤180 nm
Single machine overlay: ≤40 nm
Throughput (WPH): ≥80
Inline with track
2002 vintage.
ASML Twinscan AT 1100B는 네덜란드 기반 회사 ASML에서 생산 한 고급 웨이퍼 스테퍼 (고급 웨이퍼 스테퍼) 입니다. 침수 기반 스테퍼이며 분산 교정, 고수치 조리개 렌즈 및 고급 리소그래피 장비를 사용하여 40nm 노드까지 뛰어난 정확도로 웨이퍼 (wafer) 를 패턴화합니다. Twinscan AT 1100B에는 IC 제작에 이상적인 기계로 만드는 여러 구성 요소가 있습니다. 통합 분산 교정 광학은 전체 분야에서 파면 수차를 줄이고 최대 1.35 개의 숫자 조리개에서 사용할 수 있습니다. 웨이퍼 표면을 패턴화하는 데 사용되는 포토 마스크 (Photomask) 는 웨이퍼 스테이지에 로드되며, 그 후 x 축과 y 축에서 0.05 ~ 0.10 jm 범위의 해상도에서 웨이퍼 위로 변환됩니다. 또한 단일 노출, 이중 노출 및 다중 노출 응용 프로그램을 지원하는 2 톤 레티클 (two-tone reticle) 기능이 장착되어 있습니다. ASML Twinscan AT 1100B는 뛰어난 이미징 및 오버레이 기능뿐만 아니라, 리소그래피 시스템을 제어하기위한 독점 소프트웨어 플랫폼으로 설계되었습니다. 이 장치는 듀얼 스테이지 인 챔버 포커스 머신 (in-chamber focus machine) 과 함께 작동하며 프로세스 불균일성으로 인해 디포커스를 보상하며 에어 베어링 (air bearing) 과 모터 스테이지 디자인 (motorized stage design) 을 모두 포함합니다. 또한, 이 기계는 현장 프로세스 모니터링 (in-situ process monitoring) 을 통해 더 빠른 피드백 및 노출 프로세스 수정이 가능합니다. Twinscan AT 1100B는 탁월한 처리량과 소유 비용도 제공합니다. 이 기계는 시간당 최대 500 mm2 까지 스캔 할 수 있으며, 유지 관리가 쉽고 비용 효과적입니다. 공구 무결성 검사 (Integrity Check) 와 신뢰할 수 있는 서보 제어 (Servo Control) 기능이 내장되어 있어 생산성이 높고 효율적인 웨이퍼 스테퍼가 됩니다. 또한 ASML Twinscan AT 1100B (ASML Twinscan AT 1100B) 는 테스트된 프로세스 및 재료의 최대 유연성을 제공합니다. 즉, 짧은 노출에서 멀티 노출 레시피에 이르기까지 광범위한 노출 프로세스를 처리 할 수 있습니다. 간단히 말해서, Twinscan AT 1100B는 40nm 노드까지 매우 정확한 집적 회로를 제작하는 데 이상적인 고급, 다용도 웨이퍼 스테퍼입니다. 강력한 이미징 및 오버레이 기능, in-situ 프로세스 모니터링 기능, 뛰어난 효율성 및 처리량을 갖춘 ASML Twinscan AT 1100B는 반도체 생산 산업에 이상적인 기계입니다.
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