판매용 중고 ASML PAS 5500 / 750 #293826857

ASML PAS 5500/750은 고급 석판 작업을 위해 설계된 스테퍼 및 스캔 장비입니다. 이 시스템은 생산/산업환경 (production/industrial environment) 과 특화된 패턴화 기술이 필요한 연구/개발 (research/development) 애플리케이션을 위한 솔루션을 제공할 수 있습니다. 매우 정밀하고 정확하며 다중 필드 이미징 장치입니다. PAS 5500/750은 고해상도 이미징 렌즈와 높은 안정성, 낮은 드리프트 스캔 컨트롤러를 갖추고 있습니다. 고급 설계로 인해 노출 시간이 매우 빨라지고 처리량이 높아집니다. 오토 포커스 (autofocus), 웨이퍼 오토 로더 (wafer autoloader) 및 고급 웨이퍼 모니터링 도구 (advanced wafer monitoring tool) 를 갖춘 정확한 스테이지 및 정렬 머신이 장착되어 있어 운영자가 손쉽고 정확하게 웨이퍼를 배치하고 스캐닝 속도를 제어할 수 있습니다. 또한 스텝퍼 (stepper) 및 스캔 (scan) 에셋에는 노출 장비 매개변수 모니터링 및 제어를 위한 ETS 성능 소프트웨어 (ETS Performance Software) 를 비롯한 모델 및 도구 제어를 위한 다양한 특수 소프트웨어가 제공됩니다. 이 소프트웨어를 사용하면 운영자가 특정 프로덕션 요구에 맞게 설정을 사용자 정의하고, 시스템 성능을 프로그래밍하고 모니터링하여 정확하고 신뢰할 수 있는 리소그래피 (lithography) 작업을 수행할 수 있습니다. ASML PAS 5500/750은 유연성과 비용 효율성도 제공합니다. 다른 웨이퍼 (wafer) 크기를 수용할 수 있도록 쉽게 조정할 수 있으며, 고급 (advanced) 설계를 통해 다양한 매개변수에 대해 일관된 이미징 프로세스를 제공할 수 있습니다. 이 스테퍼 및 스캔 머신 (stepper and scan machine) 은 웨이퍼 노출 속도 및 노출 용량 수준에 대한 높은 수준의 제어가 필요한 어플리케이션에 이상적입니다. 전체적으로, PAS 5500/750은 효율적이고 높은 처리량 리소그래피 작업을 제공할 수 있는 고급 이미징 도구입니다. 정확한 단계 및 정렬 에셋을 통해 운영자는 웨이퍼를 정확하게 배치하고 스캐닝 속도를 제어 할 수 있습니다. 이 모델은 신속한 노출 시간 (fast exposure time) 과 유연한 설계를 통해 안정적이고 비용 효율적인 리소그래피 (lithography) 솔루션을 찾는 고객에게 적합합니다.