판매용 중고 ASML PAS 5500 / 550D #9191419
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판매
ID: 9191419
빈티지: 2000
DUV Scanner
Illumination board
Temperature cabinet: Controller
OCU: ULTRA-10 Including two hard disk
Electronics cabinet
Wafer transport system (wafer handling)
Air control cabinet
Laser & beam expander: CYMER ELS-6600 laser ( 2KHz ), 2000
ARMS:
(2) Grippers
IRIS: No
Reticle stage: Inside box
ACC Cabinet: Charcoal filter
Exposure unit check :
Visual check bottom lens
Top lens
No cystalization
Integrated slit uniformity:
(11) Scans in 26mm
Setting 1: 0.78
Illumination intensity:
(11) Scans in 26mm
Setting 1: 886
Dose repeatability and accuracy:
Dose repeatability: 0.3
Dose accuracy: 0.52
Image plane deviation: 178
Astigmatism: 76
Image distortion:
Non-correctable error: 11.5 / 8.8
Focus and leveling:
Focus repeatability (3 Sigma) : 0.01
Slit axis tilt repeatability (3 Sigma) : 0.37
Scan axis tilt repeatability: 0.39
Overlay performance:
Stage repeatability: 4.4 / 4.5
Single machine overlay using TTL alignment: 11.5 / 13.1
Athena alignment: X=11.5/Y=12.1
Wafer throughput:
8" Wafers: (46) Exposures
16 x 32 mm, 30 mJ/cm2
TTL [wafers/hour]: 117.8
Athena [wafers/hour]: 115.8
RBA [wafers/hour]: -
Intensity [mW/cm2]: 1240
Reticle exchange time:
Flash to flash reticle exchange time (s): 18.45
Image quality control:
3σ image sensor measurements focus repeatability [nm]: 23.37
Slit axis tilt repeatability [urad]: 5.79
Scan axis tilt repeatability [urad]: 1.17
Translation repeatability [nm]: 5.77
Magnification repeatability [ppm]: 0.29
Marker rotation repeatability [urad]: 0.26
Samos: 2.4
Straylight rema o/c (%): 1.11
2000 vintage.
ASML PAS 5500은 초소형 반도체 장치의 제조에 사용되는 웨이퍼 스테퍼입니다. 장비는 스캐닝 레이저 시스템을 사용하여 실리콘 웨이퍼 (silicon wafer) 표면을 순차적으로 밝힙니다. "레이저 '에 노출 된 각 부면 은 일련 의 노출 부면 으로 구분 되는데, 그 부면 은" 마스크' 없는 직접적 인 방법 으로 "웨이퍼 '에 인쇄 된다. PAS 5500에는 1 차 표면 회절 격자, 광학 영상 기계 및 이중 파장 레이저 소스를 포함한 최신 이미징 장치가 있습니다. 이 도구의 레이저 파장 범위는 530-570nm이며, 스팟 크기는 1m입니다. 웨이퍼 스테이지는 6 인치의 웨이퍼 투 렌즈 분리와 함께 최대 기판 크기 200mm를 지원합니다. 스테퍼는 또한 +/- 1 음 (um) 의 반복 가능성으로 높은 정밀 단계를 제공하고 위치를 반복합니다. 고해상도는 0.1 ~ 1.0 마이크로미터 범위의 최소 선폭과 0.5 마이크로미터 미만의 피치 정확도를 가진 초미세 (ultra-fine) 기능과 구조를 만들 수 있습니다. 또한 정렬 정확도가 30nm 인 고급 정렬 기능을 자랑합니다. PAS 5500은 500 nm에서 최대 10kW의 전력과 1.3 J/cm2의 최대 자산 강도를 제공하는 높은 전력 광원을 갖추고 있습니다. 이 모델의 최대 처리량은 시간당 600 웨이퍼, 최대 노출 면적은 4 x 5 마이크로미터입니다. 고급 배치 노출 기능을 통해 대형 (large-field) 및 멀티 스테이지 (multi-stage) 노출로 중단되지 않은 패턴 작업을 수행할 수 있습니다. 이 장비에는 자동 패턴 검색 및 정렬 교정을 실시간으로 수행하는 자동 정렬 (auto-alignment) 논리가 있습니다. 또한 웨이퍼 지형을 기반으로 최적의 초점을 맞추는 AutoFocus 기능도 제공합니다. PAS 5500은 photolithography 및 nanoimprinting에 적합한 다목적 웨이퍼 스테퍼입니다. 초소형 반도체 장치의 제작을 위해 고수율 및 고해상도 이미징을 제공합니다. 이 시스템은 생산 요구에 따라 빠르고, 안정적이며, 전력 효율이 높은 스테퍼 (stepper) 솔루션이 필요한 제조업체에 적합합니다.
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