판매용 중고 ASML PAS 5500 / 350C #9137673

ASML PAS 5500/350C는 마이크로 리토 그래피 응용 프로그램을위한 혁신적인 웨이퍼 스테퍼 장비입니다. 이 스테퍼는 작은 구조물에 고품질 석판 인쇄 (lithographic printing) 를 만들 수있는 독특한 디자인을 가지고 있습니다. ASML PAS 5500/350C는 특수 광학 시스템을 갖추고 있으며 최첨단 기술을 사용하여 안정적이고 반복 가능한 프로세스를 제공합니다. 이 장치는 1 미크론의 포지셔닝 정확도와 20 미크론의 조리개 크기를 가지며, 최고의 노출 성능을 위해 최신 레이저 기술을 갖추고 있습니다. PAS 5500/350C는 350W Krypton 레이저로 구동되며, 이 레이저는 고해상도 이미징 및 안정적이고 빠른 패턴화 시간을 제공합니다. 이 레이저는 70w/cm2 강도에서 최대 17nm 기능 크기를 제공 할 수 있습니다. "레이저 '의 파장 은 6.45" 미크론' 인데, 이것 은 "마이크로리터그래피 '에 사용 되는 고급 사진술사 들 을 노출 시키는 데 최적 이다. 레이저의 출력 범위는 350 와트에서 1.2kW입니다. PAS 5500/350C는 높은 정확도의 정렬 및 초점 시스템을 사용합니다. 이 스테퍼에는 영상을위한 특허를받은 저분산 객관식 렌즈 머신이 있습니다. 오브젝티브 렌즈는 0.55 숫자 조리개 (NA) 및 1.2 NA 모드 모두에서 작동합니다. 10nm에서 1 미크론 사이의 기능 크기를 지원합니다. ASML PAS 5500/350C에는 고속 스캔 헤드가 장착되어 있습니다. 최대 5MHz의 이미징 속도로 큰 노출 분야를 스캔합니다. 확대/축소 옵틱은 이미징의 최적의 스캔 스팟 (scan spot) 크기를 제공하여 이미지 품질을 향상시킵니다. ASML PAS 5500/350C는 강력하고 사용하기 쉬운 소프트웨어 패키지로 제어됩니다. 이 스테퍼는 사용자에게 친숙한 그래픽 인터페이스를 제공하며, 여러 업계 어플리케이션에서 탁월한 성능을 제공합니다. 자동 패턴 인식 (Automatic Pattern Recognition) 기능을 지원하며 처리량을 최적화하는 프로세스 피드백을 제공합니다. PAS 5500/350C는 마이크로 리토 그래피 응용 프로그램을위한 혁신적이고 강력한 웨이퍼 스테퍼 도구입니다. 최첨단 기술을 활용하며, 뛰어난 패턴화 시간 (patterning time) 을 지닌 고품질의 정밀한 이미징을 제공할 수 있습니다. 이 자산을 사용하면 사용자가 원하는 결과를 보다 쉽고 빠르게 얻을 수 있습니다.