판매용 중고 ASML PAS 5500 / 300C #9309192

ASML 5500/300C 웨이퍼 스테퍼는 반도체 제조를 위해 photomask 생산을 위해 설계된 작고 비용 효율적인 노출 장비입니다. 이 스테퍼는 직관적이고 사용자 친화적 인 그래픽 인터페이스 (Graphical Interface) 를 자랑하며, 이를 통해 사용자는 웨이퍼의 완벽한 정렬 및 노출에 맞게 설정을 쉽게 조정할 수 있습니다. ASML 5500/300C는 이중 드롭, 레이저 지원 스테퍼 아키텍처를 사용하여 각 레이어에 대해 2 개의 중복된 노출 패턴을 만듭니다. 이렇게 하면 웨이퍼 (wafer) 를 정확하게 배치하고 더 작고 균일한 피쳐 크기를 만들 수 있습니다. 이 시스템은 또한 특허를받은 'Laser-assisted Defocusing' (LAD) 장치를 갖추고 있으며, 이를 통해 기계는 최적의 정렬 및 노출을위한 웨이퍼 표면에 맞게 레이저 빔의 초점을 정확하게 조정할 수 있습니다. ASML 5500/300C 스테퍼에는 넓은 시야각 (118 x 97 mm) 과 특수 넓은 영역 빔 스플리터 (beam splitter) 가 장착되어 있어 고해상도 이미지와 기능을 렌더링하기 위해 도구가 웨이퍼의 넓은 영역을 빠르게 스캔 할 수 있습니다. 이는 주기 시간을 크게 줄이고 전반적인 노출 품질을 향상시키는 데 도움이됩니다. 노출 기능 외에도 ASML 5500/300C 웨이퍼 스테퍼에는 모든 기능을 갖춘 프로세스 제어 자산도 포함되어 있습니다. 이 모델을 통해 장비는 노출 과정에서 웨이퍼의 위치를 자동으로 모니터링할 수 있으며, 이 (가) 반복 가능한 정렬 및 노출 매개변수를 보장합니다. 이 시스템은 또한 온보드 DDS (Defect Detection Unit) 를 갖추고 있으며, 이를 통해 시스템 노출 과정에서 패턴의 결함을 감지하고 수정할 수 있습니다. 마지막으로 ASML 5500/300C 웨이퍼 스테퍼는 통신 렌즈, 스케일 렌즈, 시프트 렌즈 등 다양한 렌즈 옵션과 호환되며, 최대 0.3 미크론의 정확성을 보장합니다. 따라서 해상도가 가장 높은 포토마스크 (Photomask) 를 생성하여 사용자가 패턴에서 가장 상세한 세부 사항을 달성할 수 있게 하고, 반도체 부품을 가장 잘 생산할 수 있게 해 줍니다. 요약하면, ASML 5500/300C 웨이퍼 스테퍼는 정교한 직관적인 노출 도구로서, 사용자에게 높은 수준의 노출 정확도와 제어를 제공합니다. 자산의 폭넓은 기능은 최소한의 노력으로 고해상도 (High-Resolution) 패턴을 신속하게 렌더링할 수 있게 해주는 데 도움이 되며, 고급 프로세스 제어 (Process Control) 및 결함 감지 시스템 (Defect Detection System) 덕분에 최대의 수익률과 품질이 보장됩니다.