판매용 중고 ASML PAS 5500 / 300C #9218126

ASML PAS 5500/300C는 ASML에서 제조 한 고성능 웨이퍼 스테퍼/스캐너 장비입니다. 집적 회로 및 기타 장치의 고급 사진 해설을 위해 설계되었습니다. ASML PAS 5500/300C는 뛰어난 균일성과 함께 넓은 시야에 걸쳐 고해상도 이미징을 제공합니다. PAS 5500/300C는 기본 턴테이블 (turntable) 과 진공판 (vacuum plate) 을 포함하는 기본 프레임이있는 컴팩트 한 디자인 구조를 가지고 있습니다. "시스템 '의 외부 구조 는 환경 보호 를 하며, 광학" 요소' 는 진동 을 줄이기 위해 단단 히 장착 된다. 렌즈를 포함한 광 구성 요소는 컨트롤 콘솔 내에 통합됩니다. 4 개의 빔 채널과 광학 개선 장치 (optical enhancement unit) 및 다양한 조명 구성 (Fine Feature Resolution) 이 있습니다. 최고 해상도를 제공하기 위해 PAS 5500/300C는 1.55 미크론 레이저 스팟 크기, 빔 포인팅 정확도 1.2 미크론 및 0.5 ~ 7.5 미크론 범위의 자동 초점 기계를 갖습니다. 이 도구에는 이미지 필드 전체에 균일 한 노출을 제공하기 위해 전체 스프레드 조명 에셋 (full spread illumination asset) 이 있습니다. 또한 역방향 원격 중심 광학 모델을 사용하여 균일성 및 반복 성을 향상시킵니다. 웨이퍼의 움직임은 컴퓨터가 제어하는 스테퍼 기반 모션 장비에 의해 제어됩니다. 이 시스템은 기존 방식보다 웨이퍼에 더 적은 힘을 적용하고, 균일성 (unifority) 과 반복성 (repeatability) 을 향상시킵니다. 최대 17.5mm/sec의 속도를 낼 수 있으며, 이는 대부분의 응용 프로그램에 충분합니다. 이 장치는 다양한 웨이퍼 크기와 다양한 재료를 처리 할 수 있습니다. 특수 응용 프로그램의 경우, 더 큰 시야와 열 모양의 옵션을 제공합니다. 또한, 밀폐 된 기판의 직접 영상을 허용하기 위해 플레이트 부착이 내장되어 있습니다. ASML PAS 5500/300C는 회전 가능한 패턴 파일, 배치 작업 큐, 패턴 비교 도구 등 처리량이 많은 성능을 제공합니다. 이 기계는 또한 고정밀도 이미지 패턴을 만들 수 있으므로 운영 라인 (production line) 응용 프로그램에 적합합니다. 전반적으로 ASML PAS 5500/300C는 다양한 photolithography 요구를 충족시키는 안정적이고 효율적인 도구입니다. 넓은 시야 (field of view), 해상도 (resolution) 및 균일성 (unifority) 을 갖추고 있어 광범위한 집적 회로 애플리케이션에 적합합니다. 또한, 스테퍼 기반 모션 에셋 및 다중 조명 구성은 높은 처리량을 제공합니다.