판매용 중고 ASML PAS 5500 / 300B #9407670

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ID: 9407670
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1997
Stepper, 8" Wavelength: 248 nm Resolution: 150 nm Overlay: 28 nm Throughput: 88 WPH Options included: SECS REFL_IMAGE_SENSOR ARMS SINGLE_RETICLE_SMIF PEP_1_PRODUCTIVITY_UPGRADE PEP_2_PRODUCTIVITY_UPGRADE RETICLE_ERROR_COMPENSATION FLATNESS_MODEL LSQ_DISTO_MODEL MARK_SENSOR KEY BATCH_STREAMING INTENSITY_2 AERIAL FOCAL_ADJUSTMENT EXTENDED_EXPOSURE 1997 vintage.
ASML PAS 5500/300B는 반도체 제작에 사용되는 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 포토리토그래피 프로세스 (photolithography process), 고급 결함 검사 (advanced defect inspection) 등 다양한 작업을 수행하도록 구성된 강력하고 정확한 스테퍼입니다. 시간당 최대 500 웨이퍼의 생산 속도를 제공하며, 최대 300mm 크기의 웨이퍼를 수용 할 수 있습니다. PAS 5500/300B 는 공간 활용도를 극대화하고 프로세스 속도를 높여주는 자동화된 웨이퍼 (wafer) 처리 장비를 갖추고 있습니다. 또한 스테퍼에는 고급 피드백 시스템 (advanced feedback systems) 이 장착되어 있어 각 노출의 용량과 초점을 최적화하여 오버레이 성능을 향상시킵니다. 이 스테퍼는 위상 시프트 마스크 (Shift Mask) 를 사용하여 높은 해상도와 속도를 제공하는 고해상도 프로젝션 광학 시스템을 사용합니다. 이 장치에는 최대 4 배의 감소가 장착되어 있으며 정확도는 147 나노 미터입니다. ASML PAS 5500/300B는 단일 설정에서 여러 번 노출 될 수 있습니다. 이로 인해 처리량이 증가하고 웨이퍼 당 비용이 크게 절감됩니다. 또한 활성 온도 조절 장치 (Active Temperature Control Machine) 와 각 노출에 이상적인 조명 조건을 보장하는 주변 광 점검 도구가 장착되어 있습니다. 이 스테퍼는 CAD/CAM, SMD 및 GDS 소프트웨어와 같은 가장 널리 사용되는 설계 시스템과도 호환됩니다. 즉, 신속하고 원활한 데이터 전송을 보장하며 운영 시간을 단축할 수 있습니다. PAS 5500/300B 웨이퍼 스테퍼는 탁월한 정확성과 신뢰성을 갖춘 고성능, 고급 스테퍼 (stepper) 자산을 원하는 기업에게 적합한 선택입니다. 광범위한 반도체 제조 애플리케이션을 위한 강력하고, 유연하며, 비용 효율적인 솔루션입니다.
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