판매용 중고 ASML PAS 5500 / 250C #9265786

ASML PAS 5500/250C는 반도체 업계에서 실리콘 웨이퍼에서 미세한 전자 부품을 제조하는 데 사용되는 도구 인 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 입니다. 장비의 기술 사양은 최대 필드 크기로 시작하며, 최신 버전은 250mm 직경 (light field) 을 제공합니다. 또한, 이 광학은 컷오프 스캐너와 스텝 앤 리피트 (step-and-repeat) 광학을 모두 지원하도록 구성되며 해상도는 0.3 미크론까지 낮아집니다. PAS 5500/250C 스테퍼에는 1 개 또는 2 개의 완전 부동 플랫 테이블 스테이지와 7 축 동작 제어 시스템이 포함됩니다. 플랫 테이블 단계는 다이-투-다이 (die-to-die) 처리에 대한 탁월한 정렬 및 위치 정밀도를 제공하는 반면, 동작 제어 장치는 빠르고 정밀한 X, Y 및 Z 이동을 허용합니다. 스테퍼의 조명기는 레이저 노출 도구와 고급 I-Line 광학을 모두 갖추고 있습니다. 레이저 노출 자산은 레이저 마스크 및 DLW (Direct Laser Writing) 기술을 모두 지원하는 데 사용될 수 있으며 13.56 MHz 25 와트 ArF (원자 불소) 소스와 3 축 동작 제어 모델을 특징으로합니다. I-Line Optic은 0.6 및 0.8 미크론 작동을 지원하며, 최대 총 기판 크기가 최대 8 인치 (최대 8 인치) 인 짧은 시간에 큰 웨이퍼 크기를 노출 할 수 있습니다. 광학은 광학에 대한 기계적 변경 없이 스캔 (scan) 모드와 직선형 (rectilinear) 모드 사이를 전환하는 옵션을 제공합니다. ASML PAS 5500/250C에는 현장 내 도량형, 연락처 정렬 및 사전 정렬 모듈을위한 모듈이있는 모듈식 옵션 구조도 포함되어 있습니다. 이 장비는 또한 모든 설치, 운영 및 유지 보수 작업을 위한 Windows 기반 플랫폼을 갖추고 있습니다. 따라서 직관적인 GUI (그래픽 사용자 인터페이스) 와 보조 자동화 전용 통합 툴을 함께 사용할 수 있습니다. PAS 5500/250C (PAS 5500/250C) 는 반도체 회사에 다양한 산업 공정에 대한 정밀 패턴화 및 이미징 기능을 제공하도록 설계된 고급 시스템입니다. 최첨단 기능, 기능을 갖춘 이 장치는 다양한 유형의 전자 장치 (electronic device) 를 위한 매우 정확한 부품을 만들 수 있습니다.