판매용 중고 ASML PAS 5500 / 250 #9166553
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판매
ID: 9166553
웨이퍼 크기: 8"
i-Line stepper, 8"
ARMS Option
Image field size:
X: 22.0 mm
Y: 22.0 mm
Diameter: 31.1 mm
Steps:
X: 11
Y: 11
Measurement type: Sample mode
Lamp power (W): 3150.0
Samples per position: 50
Apply REMA window: Yes
Load reticle: N
Illumination mode: Annular
Numerical aperture: 0.58
Sigma outer: 0.800
Inner: 0.450
Uniformity measurement result:
Uniformity (%): 1.79
Logfile: LI / LIUM / waf.941
(121) Measurements
Tilt:
X (% / field): 0.74
Y (% / field): -0.18
Overall average:
Ratio: 1.00
Standard deviation: 0.01
Intensities spot sensor (mW / cm2): 1706.65
Standard deviation: 12.48
Intensities energy sensor (mW / cm2): 1706.75
Standard deviation: 5.10
Lamp time lit (hour): 1866:42
Estimated uniformity from measured data (%):
If corrected:
Actual tilts: 1.78
Gradient filter: 1.54
Tilts and with gradientfilter: 1.26
Symmetric uniformity value (%): -0.52
Currently installed.
ASML PAS 5500/250은 반도체 장치 제작에서 생산 수준의 리소그래피 작업을 위해 설계된 정교한 웨이퍼 스테퍼입니다. NGS (Next Generation Scanning) 장비는 0.25 미크론의 해상도로 시간당 최대 25 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 웨이퍼 스테퍼는 동급 최고 수준의 처리량 및 해상도를 제공합니다. 시스템의 중심에는 8 채널 멀티 스캐너 구성을 사용하는 고급 스캔 렌즈 (scan lens) 어셈블리가 있습니다. 이 설정은 다른 스텝 (stepper) 보다 훨씬 높은 처리량을 가능하게 하며, 이는 생산 속도를 극대화하려는 제조업체에게 이상적인 선택입니다. 이 렌즈는 최소 0.25 미크론 해상도를 제공하며, 이는 고급 반도체 장치 제작에서 많은 석판 공정에 필요합니다. 이 장치에는 ADO (Advanced Dispersive Optics) 라는 고유 한 기능도 포함되어 있습니다. 이 기술은 여러 개의 "렌즈 '와 거울 조합을 사용하여 이미지 해상도를 향상시키는 기술입니다. 이 기술은 수차 (수차) 를 제거하고 해상도를 개선하여 스테퍼가 높은 전문적인 수준의 정확성을 유지할 수 있도록 도와줍니다. 또한 ASML PAS 5500/250에는 다양한 지원 기능이 있습니다. 예를 들어, 자동 웨이퍼 로딩 머신 (automated wafer loading machine) 과 다양한 기능이 있어 웨이퍼를 매우 정확하게 정렬할 수 있습니다. 또한 "렌즈 '와 부품 의 효율성 과 수명 을 극대화 하는 통합 냉각 도구 가 있다. 또한 스티퍼에는 운영 및 프로그래밍을 단순화하는 포괄적인 GUI (Graphical User Interface) 가 장착되어 있습니다. 그렇게 하면, 초보자 들 이 쉽게 자산 에 대해 잘 알게 되어, 복잡 한 리소그래피 작업 (lithography task) 을 손쉽게 수행 할 수 있게 됩니다. PAS 5500/250 (PAS 5500/250) 은 강력하고 안정적인 웨이퍼 스테퍼로, 제조업체가 동급 최고 수준의 처리량과 해상도를 제공합니다. ADO 기술과 포괄적인 지원 기능을 통해 고정밀도 리소그래피 (lithography) 어플리케이션을 선택할 수 있습니다.
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