판매용 중고 ASML PAS 5500 / 125E #9188743

ASML PAS 5500/125E는 석판 도구 및 서비스의 리더 인 ASML이 개발 한 '6 세대' 고급 상용 단계 및 스캔 장비입니다. 이 시스템은 뛰어난 이미징 성능, 리소그래피 제어 및 정밀 정렬을 약속하는 고급 6 세대 스테퍼 기술과 이전 세대의 PAS (PAS 5500/125E) 스캔 모듈 (PAS 5500/125E) 을 모두 통합하여 높은 처리량과 정확성을 제공합니다. ASML PAS 5500/125E는 크립톤 플루오 라이드 (KrF) 엑시머 레이저를 특징으로하며, 직경은 최대 85 밀리미터 (mm), 파장은 248 나노 미터 (nm) 입니다. 이 "레이저 '는 넓은 면적 을 비출 수 있는 세밀 한 조명광 을 만들어 내는데, 이것 은" 마이크로 칩' 생산 과 같은 정밀도 와 정확성 이 필요 한 "응용프로그램 '에 이상적 이다. 이 장치는 DMA (Advanced Dose Mapping) 및 RCA (Advanced Resist Control) 를 포함하여 가장 발전된 6 세대 기술을 갖추고 있습니다. 이 기술은 포토 esist의 노출 용량을 제어하는 데 필수적이며 포토 마스크의 해상도와 대비를 관리합니다. 또한, 새로운 6 세대 머신은 소프트웨어 제어 레이저 정렬 시스템과 디스플레이 모니터의 조합을 사용하여 향상된 다이 (in-die) 정렬을 제공합니다. 이러한 고급 기능을 통해 생산성과 정확성이 향상됩니다. 또한 PAS 5500/125E는 ASML 고급 '나선 스캔' 기술을 사용하여 이미지를 인쇄 마스크에서 반도체 웨이퍼로 전송합니다. 이 과정에서 장치는 '공간 주파수 (spatial frequency)' 의 나선형 지점을 웨이퍼에 비추고, 장치가 지속적으로 재조정할 수있는 지형지도를 개발합니다. 이를 통해 전체 반도체 웨이퍼 (wafer) 를 통해 이미징이 스캔 내내 왜곡이 없도록 조정할 수 있습니다. ASML PAS 5500/125E에는 자동 초점 도구 (auto-focus tool) 가 있으며, 이 도구는 항상 웨이퍼 위치를 추적하여 균일하고 명확한 이미징을 유지하는 데 도움이됩니다. 또한, 에셋에는 환경 동기화 메커니즘 (Environmental Synchronization Mechanism) 이 포함되어 있어 모델 챔버에서 일관된 온도와 습도를 보장합니다. 이는 장비의 전체 수명을 연장하고, 일관된 출력을 유지하는 데 도움이됩니다. 요약하자면, PAS 5500/125E는 최첨단 6 세대 스테퍼 기술과 ASML PAS 5500/125E 스캔 모듈을 갖춘 고급 상용 스테퍼 시스템입니다. 용량 매핑, 저항 제어, 다이 정렬, 나선형 스캔, 자동 초점 및 환경 동기화 메커니즘과 같은 고급 기능을 통해 높은 이미징 정밀도 및 정확도를 제공합니다.