판매용 중고 ASML PAS 5500 / 1100 #293668650

ASML PAS 5500/1100은 웨이퍼의 집적 회로 제작에 사용되는 웨이퍼 스테퍼 장비입니다. 스테퍼 시스템은 정렬 현미경, 투영 광학 및 ASM (Advanced Stepper Module) 으로 구성됩니다. 정렬 현미경은 포토 마스크 (photomask) 와 웨이퍼 (wafer) 를 정확하게 정렬하는 데 사용되는 고해상도 기능을 갖춘 특수 광학 현미경입니다. 프로젝션 광학 (projection optics) 은 웨이퍼에 포토 마스크의 고해상도 이미징 (high-resolution imaging) 을 제공하여 리소그래피 공정에 대한 피쳐를 매우 정확하게 정렬 할 수 있습니다. ASM 은 포토 마스크 (photomask) 와 웨이퍼 (wafer) 를 모두 보유한 스테이지의 움직임을 세밀하게 제어하여 웨이퍼 (wafer) 에 원하는 패턴을 생성합니다. ASML PAS 5500/1100은 ASM, 현미경 및 프로젝션 광학 모듈을 공유하여 최대 12 개의 프로세스 모듈을 유연하게 레이아웃할 수 있도록 설계되었습니다. 스텝퍼 (stepper) 장치는 스캐닝 모드일 때 스캐닝 (scanning) 및 정렬 (alignment) 기능을 분리하기 위해 이중 열 구성을 사용하는 시스템과 스캔 작업 모두에서 작동할 수 있습니다. 공구에는 스텝 헤드가 움직이고 포토 마스크 (photomask) 와 웨이퍼 (wafer) 를 서로 정확하게 배치할 수있는 XY 단계가 있습니다. ASM (Closed-loop control) 은 XY 평면에서 매우 정확한 움직임을 보장하며, 포커스 조정으로 다양한 웨이퍼의 리소그래피 (lithography) 요구 사항을 충족시킵니다. 에셋은 각 모듈에 대해 독립적 인 닫힌 루프 제어 (closed-loop control) 를 가지도록 설계되어, 생산 중 각 모듈의 정밀한 설정과 최대 안정화를 가능하게 합니다. 스텝퍼 (stepper) 는 웨이퍼 (wafer) 에서 많은 패턴을 지원할 수있는 넓은 시야를 가지며, 웨이퍼 스테이지는 로우 -kV (low-kV) 및 진동이 없도록 설계되어 고급 프로세스를 지원합니다. PAS 5500/1100은 뛰어난 성능, 정확성 및 신뢰성을 제공합니다. 이 모델은 프로그래밍 가능한 스텝 크기를 가지며 X 및 Y에서 최대 6,000m까지 스텝 할 수 있으며 +/- 1.5m의 노출 정확도를 제공합니다. 또한 39nm 해상도의 고품질 이미징, 전력 효율적인 작동 및 향상된 주기 시간을 제공합니다. 이러한 기능 외에도 웨이퍼 스테퍼 (Wafer Stepper) 장비에는 온도, 상대 습도, 진동 센서 (Vibration Sensor) 및 다양한 카메라 시스템 (Camera System) 을 포함한 강력한 통합 센서 네트워크가 있어 환경을 모니터링하고 최적의 사이클링 온도와 습도를 유지합니다. 리소그래픽 프로세스 (lithographic process) 동안 항상 시스템이 모니터링되므로 지속적인 프로세스 최적화가 가능합니다. 마지막으로, PAS 5500/1100 은 엔지니어의 고급 자동화/제어 툴을 제공하여 프로세스를 최적화하고 최고 품질의 표준을 달성합니다.