판매용 중고 ASML PAS 5500 / 100D #9228177
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ID: 9228177
웨이퍼 크기: 8"
빈티지: 1996
Stepper, 8"
Illumination:
Uniformity:
22.0 x 22.0mm [%]: ≤1.5
14.7 x 27.4mm [%]: ≤1.5
Intensity: 900 mw/cm2
Dose repeatability & accuracy [%]: ≤1.0
Dose matching [%]: ≤2.0
Imaging:
UDOF (0.4nm) [um]: ≤1-0
Overlay:
Global overlay: 99.7% (All errors)
Day 1 [nm]: X<60, Y<60
Day 2 [nm]: X<60, Y<60
Day 3 [nm]: X<60, Y<60
Stage accuracy [um]: X<15, Y<15
Material handling:
Prealign accuracy X pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Y pos [3Σ][um]: ≤8.5
Prealign accuracy Φ pos [3Σ][urad]: ≤180
Distortion:
Lens distortion [nm]: X ≤ 60, Y ≤ 60
Magnification [ppm]: ≤ 2.0
Die rotation [urad]: ≤ 2.0
Symmetrical [nm/cm2]: X≤ 10
Trapezoidal [mn/cm2]: Y≤ 10
1996 vintage.
ASML PAS 5500/100D (ASML PAS 5500/100D) 는 오늘날 시장에서 사진술 응용 프로그램을위한 가장 고급적이고 신뢰할 수있는 웨이퍼 스테퍼 중 하나입니다. 이 스테퍼는 다양한 기능 크기에 걸쳐 세계적 수준의 프로세스 성능을 제공할 수 있습니다 (영문). ASML PAS 5500/100D는 모듈식 설계를 통해 최대의 유연성과 업그레이드를 지원합니다. 고급 (Advanced) 옵티컬 장비로 제작되었으며, 고급형 정밀 정렬 및 노출이 가능하도록 설계되었습니다. 이 시스템은 노출광의 진폭 (Amplitude) 및 위상 변조 (Phase Modulation) 를 위해 설계되었으며, 뛰어난 공간 해상도와 최고의 동적 범위를 제공합니다. 또한 PAS 5500/100 D 는 완전 자동 정렬기 (aligner) 및 오버레이 (overlay) 플랫폼을 지원하므로 이 과정에서 신속한 실시간 오버레이 측정 및 검증을 수행할 수 있습니다. 이 플랫폼을 사용하면 웨이퍼 전체에서 전체 마스크 처리를 모니터링하고 제어할 수 있습니다. 향상된 선형 모터와 드라이브는 부드럽고 정확하며 반복 가능한 동작을 가능하게 합니다. 스테퍼에는 고급 컨트롤, 모니터링 및 진단 기능 (정확한 제어 및 안전한 프로세스) 도 포함됩니다. 또한 스테퍼에는 4 축 선형 모터와 인코더 (encoder) 의 이중 세트를 통합 한 고정밀 등록 및 정렬 장치가 제공됩니다. 이 기계는 노출 과정에서 매우 정확하고 안정적인 등록 및 정렬을 위해 설계되었습니다. 스테퍼에는 웨이퍼 클리닝 및 검사, 웨이퍼 기판 및 프레임 정렬, 웨이퍼 기판 및 프레임 검증, 웨이퍼 기판 인식, 웨이퍼 잔류 모서리 인식 등 다양한 고급 웨이퍼 처리 기술이 있습니다. 또한 PAS 5500/100D에는 직원 안전 및 웨이퍼 처리를 보장하도록 설계된 고급 안전 시스템 (Advanced Safety System) 이 장착되어 있습니다. 스테퍼에는 화재 예방 도구 (Fire Prevention Tool) 와 필요할 때 처리 단계를 멈출 수있는 에어로졸 방출 에셋 (Aerosol Release Asset) 이 포함됩니다. 또한 스테퍼 (stepper) 는 모델의 민감한 광학 부품을 손상시키거나 웨이퍼 (wafer) 프로세스에 영향을 줄 수있는 환경 조건을 방지하도록 설계되었습니다. 스테퍼는 또한 결정 구조와 비정질 구조의 최대 성능을 보장합니다. PAS 5500/100D 는 정확하고 안정적인 작동이 필요한 모든 photolithography 애플리케이션을 위한 완벽한 선택입니다.
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