판매용 중고 ASML PAS 5500 / 100C #9228851
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ID: 9228851
Stepper
Uniformity: %
22x22 mm: </= 1.6
14.7*27.4mm: </= 1.6
Intensity: >/= 850 mW/cm^2
Lamp Life: 1500W: </= 150 hrs
Dose repeatability & accuracy: </= 1
Reticle masking black border size: </= 475
Image performance:
Astigmatism: </= 0.35
Focal plane deviation: </= 0.45
UDOF @ 0.40 um lines: >/= 1um
Focus / Leveling:
Focus repeatability focus: </= 50nm
Rx: </= 3 urad
Ry: </= 3 urad
FOCAL: Valid positions ≧ 14
Best focus < ± 0.2 um
Image tilt Rx < ± 5 urad
Image tilt Ry < ± 5 urad
Image distortion (lens):
Max X (NCE): </= 60nm
Max Y (NCE): </= 60nm
Magnification: </= 2 ppm
Rotation: </= 2 urad
Symmetrical T: </= 10 nm/cm2
Trapezoidal: </= 10 nm/cm2
Overlay performance:
Stage repeatability
Max x: </= 15nm
Max y: </= 15nm
Single machine: </= 60nm
2-NA Global overlay:
NA=0.48
NA=0.57
Prealigner accuracy:
Edge sensor
X (3sig): </= 8.5um
Y (3sig): </= 8.5um
Rotation (3sig): </= 180 urad
Edge sensor:
SD Y < ± 2.1 um
SD Rot < 45 urad
SD X < ± 2.1 um
Mark sensor:
SD Y < ± 2.1 um
SD Rot < 45 urad
SD X < ± 2.1 um
Image quality control (3sig):
Focus: </= 50 nm
Image Rx: </= 2 urad
Image Ry: </= 2 urad
Translation: </= 20 nm
Magnification: </= 2 ppm
Rotation: </= 2 urad
Throughput
(70) Shots at 200 mJ, 8": >/= (70) Wafers / Hour
Reticle exchange time: </= 29 Seconds
System reliability: > 500 PCs
Particle: 0.2um < 10ea
Laser output:
Alignment laser: > 12 mw
Interferometer HP laser: > 220 μw
Missing parts:
MVR Rack power supply
Lens bag inactivity
Workstation hard disk
(2) ACU Air pipes
Wafer handler elevator: 3/4 Cover.
ASML PAS 5500/100C는 주로 마스크를 다양한 기판에 투영하는 데 사용되는 웨이퍼 스테퍼입니다. 반도체 제조, 태양 광 및 평면 패널 디스플레이와 같은 산업에 널리 사용됩니다. 소음 및 기타 부작용 요소를 최소화하면서 처리량을 최대화하도록 설계된 다양한 기능을 자랑합니다 (영문). 예를 들어, 장비는 0.9 초 미만의 위치 조정 시간을 제공하여 작업의 빠른 처리 시간을 보장합니다. 이 시스템에는 주변 대기에 대한 지능적인 모니터링을 지원하는 환경 센서 (환경 센서) 가 포함되어 있어 온도, 정적, 습도에 대한 응답과 제어가 가능합니다. 이 장치는 ArF 레이저 소스, 깊은 UV 광원 등을 포함한 다양한 광학 및 광원 (light source) 과 호환되며, 모든 크기와 복잡성의 작업이 완료 될 수 있습니다. 또한 OPC 처리 및 스티치 인쇄와 같은 작업에 필요한 특수 기능도 포함되어 있습니다. 즉, 모듈식 설계를 통해 필요에 따라 장비를 자유롭게 스왑 아웃하고 구성할 수 있으므로 효율성을 극대화할 수 있습니다. 이 기계는 수직, 수평, 진동을 최소화하여 정확한 패턴과 고품질 이미지를 보장하기 위해 고급 (advanced) 로봇으로 설계되었습니다. 고효율 냉각 도구 (cooling tool) 는 균일 한 표면 품질을 처리하는 동안 입자 열이 챔버 전체에 균등하게 분포되도록 보장합니다. 또한, 고급 레이저 스캐터미터 에셋 (scatterometer asset) 은 높은 정밀도를 제공하도록 설계되어 이미지를 서브 미크론 수준에 일관되게 정렬합니다. ASML PAS5500/100C는 최대 2kHz 주파수에서 작동 할 수있는 초고속 모션 컨트롤을 제공합니다. 즉, 빠른 응답 시간을 보장하여 즉시 조정할 수 있도록 운영자의 명령을 제어할 수 있도록 합니다 (영문). 이 모델에는 종합적인 프로파일 라이브러리 (Library of Profile) 와 이미징 프로세스를 총체적으로 제어하기 위한 다양한 다른 기능이 포함되어 있습니다. 또한 전원 차단 안전 (Power-down Shutdown Safety), 들어올린 물체 감지, 스테이지 충돌 탐지 등 다양한 안전 기능으로 설계되었습니다. 이 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 는 다용도를 극대화하기 위해 설계되었으며, 다양한 기능을 자랑하여 다양한 어플리케이션에 적합합니다. "실리콘 '장치 제조사 들 의 인기 의 핵심 요소 인, 그 기능 의 범위 는 안정성 이 높고 효율적 이다.
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