판매용 중고 ASML PAS 5000 / 55 #9300741

ASML PAS 5000/55는 웨이퍼 기반 마이크로 일렉트로닉 회로를 생성하는 데 사용되는 매우 정확한 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 기계는 광범위한 마이크로 제작 기술 (micro-fabrication technologies) 에서 높은 정확도로 기판을 마스킹 할 수 있습니다. 플라즈마 방전의 극한 UV (EUV) 빛을 사용하여 웨이퍼에 패턴 화 된 빛을 노출시키는 고급 석판화 장비 (Advanced Lithography Equipment) 가 특징입니다. PAS 5000/55 (PAS 5000/55) 는 왜곡이 거의 또는 전혀 없는 뛰어난 패턴 해상도를 제공하여 높은 수율로 매우 작은 구조를 생산할 수 있습니다. 리소그래피 시스템은 미러 옵틱 (mirror optics) 을 사용하여 EUV 광원을 스테퍼에 장착 된 레티클에 투영합니다. 기계는 웨이퍼 위에 정확한 패턴을 생성하기 위해 최대 30kHz 주파수에서 레티클 (reticle) 을 스캔합니다. 장치의 광학 컴포넌트 (optical component) 는 가장 높은 패턴 해상도를 보장하기 위해 0.9의 매우 높은 수치 조리개를 갖습니다. 프로세서 컨트롤은 사전 정렬자 (pre-aligner), 속도 및 가속 데이터의 위치 데이터, 샷당 반복 횟수 (repetition), 패턴선 너비 (width of pattern line), X선 설정 등의 레티클 데이터와 같은 외부 입력을 허용합니다. 스테퍼는 레이저 전력, 용량 속도, 샷 수를 제어하기 위해 소프트웨어로 프로그래밍됩니다. 레이저는 최대 4 MHz (최대 4 MHz) 의 펄스 반복 속도와 최대 200 mm 직경의 필드 크기를 가질 수 있습니다. 또한 스테퍼는 최대 20m/sec 의 높은 노출 속도를 지원하므로 처리량을 높일 수 있습니다. ASML PAS 5000/55에는 운영자와 기계의 안전을 보장하는 다양한 안전 (safety) 기능과 센서가 있습니다. 이 기계는 여러 환경 조건에서 작동 할 수 있습니다. 여기에는 온도, 습도, 진동 센서 등, 잠재적 오염에 대한 운영자에게 경고하는 기능이 포함됩니다. PAS 5000/55는 칩 생산에 적합한 선택입니다. 신뢰할 수 있고, 정확하며, 복잡한 구조를 효율적으로 생산할 수 있습니다. 또한, 비용 효율적이며, 최소한의 왜곡으로 탁월한 패턴 해상도를 제공하여, 재구성 주기 (re-fabrication cycle) 를 줄여 더 높은 수율을 허용합니다.