판매용 중고 ASML PAS 5000 / 50 #9241835

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ID: 9241835
웨이퍼 크기: 6"
Stepper, 6" Illumination homogeneity: 15.0 x 15.0 mm (%): ≤ 3.0 9.4 x 19.0 mm (%): ≤ 3.0 Illumination intensity (mW/cm²): ≥ 245 Reticle masking (μm): ≤ 500 Lens distortion: Non-correctable error (nm): X 15 x 15: ≤ 120 nm Y 15 x 15: ≤ 120 nm Mag: <50 nm/cm Die rotation: < 5 urad Trapezoidal X: <50 nm/cm² Trapezoidal Y: <50 nm/cm² Pre-alignment accuracy (Optical sensor): X m1 w1 (um): ≤ 7 Y m1 w1 (um): ≤ 7 Y m1 w2 (um): ≤ 7 Stage repeatability: X [nm]: ≤ 100 Y [nm]: ≤ 100 Single machine overlay (99.7%) X Max 99.7%: ≤ 150 Y Max 99.7%: ≤ 150 Wafer throughput: Wafer throughput at 200 mJ/cm²: ≥ 47 Reticle exchange time (seconds): ≤ 40 UDOF: >1.2 um Intra filed CD: ± 0.05 um @ 0.5 ± 0.025 um mean CD Target CD reproducibility: 0.5 ± 0.05 um Overlay: Box in box: <150 nm Overlay on product wafer: <150 nm System stability: Contamination (3) Topside particles: 0.5um / Larger.
ASML PAS 5000/50 웨이퍼 스테퍼는 반도체 제조에 사용되는 최첨단 도구입니다. 고해상도 장치 및 구성 요소를 고해상도 프로덕션 환경에서 웨이퍼에 인쇄합니다. 구체적으로, ASML PAS 5000/50은 200mm 또는 300mm의 대형 다이 크기를 위해 설계된 50mm의 넓은 필드 크기를 가진 매우 정확하고, 깊은 UV 지원 스텝 및 스캔 석판화 도구입니다. 고급 패턴화 기술, 인사이트 (in-situ) 측정 시스템을 통한 오버레이 제어, 부드럽고 정밀한 워크플로우를 위한 비접촉 웨이퍼 엘리베이터가 특징입니다. PAS 5000/50 스테퍼는 더 나은 초점 깊이를 위해 분할 조명, 이미징 및 오버레이 정확도를 향상시키는 이중 광학 시스템, KrF 엑시머 레이저 스캐닝 광학과 같은 고급 석판 기술 (예: 운동학적 거울 기반 스테이지 제어 시스템) 과 같은 여러 프로세스 기술을 통합합니다. 또한, 스테퍼에는 포토 마스크 (photomask) 의 포커스를 웨이퍼에 정확하게 제어하기 위해 높은 정확도의 진공 제어 시스템이 장착되어 있습니다. 0.15 미크론 (micron) 장치와 구성 요소를 생산할 수 있는 PAS 5000/50은 신뢰성이 높고 반복 가능하며, 차세대 처리량과 제어가 가능합니다. 고품질 이미징, 인쇄 기능과 더불어 패키지 사용자 정의 옵션으로, 고급 리소그래피 (lithography) 프로세스에 적합합니다. 또한, 낮은 건강 유지 관리 요구 사항, 다양한 생산 부하에 대한 견고성, 주기 (cycle) 시간 감소는 광범위한 반도체 생산 환경에서 그 인기에 기여합니다. ASML PAS 5000/50은 고급 고성능 리소그래피 처리를 위한 완벽한 선택입니다. 다양한 프로세스 기능과 함께 높은 수준의 정밀도, 정확도, 처리량을 통해 ASML PAS 5000/50 은 모든 반도체 생산 환경에 적합한 툴이 됩니다. 프로세스에서 고해상도 장치의 패턴화 (patterning) 나 인쇄 (printing), 또는 효율적이고 정확한 오버레이 제어를 필요로 하더라도 PAS 5000/50은 실망하지 않습니다.
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