판매용 중고 ASML PAS 5000 / 275D #293817887
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ID: 293817887
i-Line stepper
Numerical Aperture (NA): 0.48-0.60
Resolution: 280 nm
DCO: 80
Throughput (WPH): >120.
ASML PAS 5000/275D는 photolithography 공정에 반도체 산업에서 사용되는 고도로 고급 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 장비는 반도체 산업을 위한 사진술사 (photolithography solution) 의 선두 업체인 ASML에서 설계 및 제조한 것입니다. PAS 5000/275D 모델은 ASML로 유명한 PAS 시리즈 스테퍼의 일부로, 정밀도, 안정성 및 높은 처리량 기능으로 유명합니다. ASML PAS 5000/275D 웨이퍼 스테퍼는 5 배 감소 렌즈 시스템을 갖추고 있으며, 실리콘 웨이퍼에서 고해상도 및 고밀도 집적 회로 생산에 적합합니다. 최대 0.25 미크론 (미크론) 의 해상도로, 이 스테퍼는 매우 미세한 기능과 단단한 차원 제어가 필요한 고급 반도체 장치 제조에 적합합니다. PAS 5000/275D 의 주요 기능 중 하나는 고급 정렬 및 오버레이 제어 기능입니다. 이 장치는 정교한 정렬 머신 (alignment machine) 을 사용하여 레티클 (reticle) 의 패턴과 웨이퍼 (wafer) 간의 정확한 정렬을 보장하여 웨이퍼 서피스에 회로 패턴을 정확하게 전송할 수 있습니다. 또한, 스테퍼에는 정렬 오류를 최소화하고 웨이퍼 전체에서 일관된 오버레이 정확성을 보장하는 고급 오버레이 제어 도구 (Advanced Overlay Control Tool) 가 장착되어 있습니다. ASML PAS 5000/275D 스테퍼는 또한 빠른 웨이퍼 포지셔닝 및 노출이 가능한 고속 스테이지 자산을 갖추고 있습니다. 이 고속 스테이지 모델은 ASML 독점 모션 컨트롤 (Motion Control) 기술과 결합하여 스테퍼가 높은 수준의 정확성과 반복 성을 유지하면서 높은 처리 속도를 달성 할 수 있습니다. 결과적으로, PAS 5000/275D는 엄격한 제조 내성을 가진 반도체 장치의 볼륨 생산에 적합합니다. 조명 측면에서, ASML PAS 5000/275D 스테퍼는 웨이퍼 표면의 균일 한 노출을 보장하기 위해 균일 한 조명을 제공하는 최첨단 조명 장비를 사용합니다. 이 시스템은 조명 설정 (lumination settings) 측면에서 유연성을 제공하여 다양한 유형의 포토리스 (photoresist) 재료 및 프로세스 요구사항에 대한 노출 조건을 최적화할 수 있습니다. PAS 5000/275D 스테퍼에는 자동 결함 감지 및 수정을위한 고급 이미지 처리 알고리즘 및 소프트웨어 도구가 있습니다. 이 기능은 이 장치를 사용하여 제조된 반도체 장치의 품질 (Quality) 과 안정성을 보장하여 결함의 위험을 줄이고 전체 수익률을 향상시킵니다 (영문). 전반적으로 ASML PAS 5000/275D 웨이퍼 스테퍼는 첨단 반도체 장치 생산에 탁월한 성능, 정확성, 신뢰성을 제공하는 최첨단 사진 판독기 (photolithography machine) 입니다. 고급 정렬 및 오버레이 제어 기능, 고속 스테이지 도구, 정교한 조명 및 이미지 처리 기술을 갖춘 PAS 5000/275D 는 반도체 (semiconductor) 제조업체를 위한 신뢰할 수 있는 솔루션으로, 반도체 (semiconductor) 기술의 경계를 넓히고 뛰어난 장치 성능을 제공합니다.
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