판매용 중고 ASML PAS 2500 / 10 #9250191

ASML PAS 2500/10은 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 로, 현대 기술에 전력을 공급하는 집적 회로를 생산하는 데 사용되는 광학 석판화 장비의 한 유형입니다. 이 "머신 '은 완전 히 현대적 인 기계 로서, 최고 의 속도 와 안정성 을 지닌 가장 훌륭 하고 복잡 한 회로 를 생산 하도록 설계 되었다. 기계 의 중심부 에는 투영 장비 가 있는데, 이 장비 는 기계 의 "스테이지 '위 에 놓인" 웨이퍼' 에 "패턴 '을 투영 한다. 이 "시스템 '의 목적 은 석판화 과정 에서" 웨이퍼' 위 에 세워지는 회로 의 각 층 의 "이미지 '를 형성 하는 것 이다. 이렇게 하기 위해 투영 장치 는 두 개 의 "렌즈 '즉 광원 과 회로 설계 를 정의 하는" 패턴' 이 들어 있는 "레티클 '을 사용 한다. 이러 한 "요소 '의 결합 은 전통적 인" 스테퍼' 에 사용 되는 것 보다 더 진보 되어 있으며, 회로 의 "이미지 '를 형성 할 때 가장 높은 정확도 를 보장 해 준다. PAS 2500/10에는 또한 투영 도구의 각도를 측정하는 2 개의 각도 센서, 스테이지 위치를 측정하는 2 개의 레이저 간섭계 (laser interferometer) 및 2 개의 telecentric 렌즈를 포함하여 여러 구성 요소가있는 이미징 머신이 포함되어 있습니다. 이 "이미지 '에셋 은 모든" 이미지' 들 이 "웨이퍼 '의 정확 한 장소 에 형성 되게 하는 데 도움 이 된다. 기계에는 고급 스테이지 제어 모델도 있습니다. 이 장비는 특수 서보 모터 (servo motor) 세트를 사용하여 투영 시스템에 상대적인 웨이퍼를 이동합니다. 목표는 이미지와 웨이퍼 사이의 정확한 간격을 유지하는 것입니다. 즉, 이미지를 왜곡시킬 수 있는 요인이 최소한으로 유지되므로 회로기판을 생산할 때 가능한 가장 높은 정확도 (accurity) 를 확보할 수 있습니다. ASML PAS 2500/10에는 웨이퍼 제약 장치도 포함되어 있습니다. 이 기계 는 외부 원소 로 인한 오염 이나 손상 으로부터 "웨이퍼 '를 보호 하기 위한 것 이다. 이것 은 기계 가 작동 할 수 있는 정확도 와 속도 에 있어서 특히 중요 하다. 마지막으로, PAS 2500/10에는 고급 소프트웨어 (컴퓨터 프로그래밍을 돕기 위해 사용됨) 가 포함되어 있습니다. 이 소프트웨어는 사용자가 리소그래피 (lithography) 프로세스의 매개변수를 제어하여 최상의 결과를 얻을 수 있도록 도와줍니다. ASML PAS 2500/10 (ASML PAS 2500/10) 은 현재 사용 가능한 가장 고급 웨이퍼 스테퍼 중 하나이며, 엄청나게 빠른 속도로 매우 복잡하고 정밀한 회로 보드를 생산할 수 있습니다. 고급 투영 도구, 이미징 에셋, 웨이퍼 (wafer) 격리 모델, 소프트웨어 등을 통해 이러한 수준의 정확성과 속도를 얻을 수 있습니다.