판매용 중고 ASML PAS 250 #293805262

ASML PAS 250 (ASML PAS 250) 은 리소그래피 프로세스 동안 반도체 웨이퍼에 매우 정확한 패턴을 생성하도록 설계된 고급 광학 이미징 장비입니다. 반도체 업계에서 가장 널리 쓰이는 스테퍼 (stepper) 다. PAS 250 시스템은 컴퓨터 제어 메인프레임, CNC (Computer Numerical-Controlled) 메인프레임 및 광 열로 구성됩니다. 메인프레임은 스테퍼의 X 및 Y축과 광학단위를 포함하는 Z축을 정확하게 제어합니다. CNC 메인프레임 (mainframe) 은 이미지 전송을 위해 작업 가능한 작업과 시스템의 노출 기능을 제어합니다. 또한, 메인프레임은 의도한 디자인 레이아웃을 달성하기 위해 선택적으로 필름을 웨이퍼에 에치 (etch), 개발 (development) 및 베이크 (bake) 하도록 구성 될 수 있습니다. ASML PAS 250 의 광 열은 메인프레임에 마운트되고 구분되며 다양한 렌즈 (lense), 미러 (mirror) 및 기타 구성 요소로 구성됩니다. 이 열을 사용하면 노출 메커니즘을 통해 원하는 레이아웃에서 이미징 데이터를 웨이퍼 (wafer) 에 투영할 수 있습니다. PAS 250의 매우 높은 정확도로 인해, 0.2 "m '의 작은 특징을 웨이퍼, 여러 층, 복잡한 패턴으로 에칭 할 수 있습니다. 총 CCD 노출 면적은 6.8mm이며, 필드 컨버전스 정확도는 +/- 0.15 -m이며, 이 도구는 IC 및 기타 구성 요소 생산에 적합합니다. 또한 ASML PAS 250은 다중 패턴 교환 (multi-pattern exchange) 및 노출 (exposure) 기능을 통해 더 빠른 패턴 노출 시간으로 인해 높은 생산성과 고품질 장치를 사용할 수 있습니다. 또한, PAS 250에는 석판 처리를 단순화하는 여러 가지 고급 기능이 장착되어 있습니다. 이러한 기능에는 이동 가능한 플랫폼, 자동 초점 자산 및 통합 스테퍼 제어 장치 (stepper control unit) 가 포함됩니다. 이동식 플랫폼 (moveable platform) 을 통해 연산자는 복잡한 패턴을 노출시킬 수 있으며, 자동 포커스 모델은 렌즈, 포커스, 필터 설정을 조정하여 스테퍼의 성능을 최적화합니다. 통합 스테퍼 제어 장치 (Integrated Stepper Control Unit) 는 프로세스 매개변수를 최적화하여 더 높은 처리량과 더 나은 이미징을 제공합니다. 전반적으로 ASML PAS 250은 고급 웨이퍼 스테퍼 (wafer stepper) 장비로, 반도체 웨이퍼에서 복잡한 패턴을 생산하기위한 뛰어난 이미징 기능을 제공합니다. 이 시스템의 정확성과 다용도 (versitility) 는 다양한 애플리케이션 및 업계 부문에서 선호되는 선택입니다.