판매용 중고 ASML AT 1100 #293664232

ASML AT 1100은 오늘날의 주요 반도체 제조업체를 위해 설계된 고정밀 웨이퍼 스테퍼 및 리소그래피 도구입니다. 고급 기술을 사용하여 0.6 미크론 해상도의 반도체 웨이퍼에서 미분 기능을 패턴화합니다. 4축 스캐너는 레티클을 웨이퍼 스테이지에 정렬하고 2 "(50.8mm) 에서 12" (304.8mm) 의 범위를 덮을 수 있습니다. 기계의 병렬 다중 축 공기 베어링 (parallel multi-axis air bearing) 설계는 레티클과 웨이퍼의 정밀한 정렬 및 동작 제어를 가능하게합니다. 짧은 파장 침수 리소그래피 (immersion lithography) 기법의 사용으로 피쳐 크기를 추가로 줄일 수 있습니다. 실리콘 침수 렌즈 (silicon immersion lens) 가있는 2 필드 광학 설계는 초점 감축 깊이를 6 배까지 제공 할 수 있습니다. 이 기능을 사용하면 더 가까이 패턴화 할 수 있습니다. 또한, 2 필드 광학 디자인은 0.93의 높은 수치 조리개를 제공하여 주기 시간이 빨라집니다. AT 1100은 ASML ACE 소프트웨어로 구동되는 턴키 시스템입니다. Uniformity, Intensity 및 Multilayer Energy Uniformity 알고리즘의 최적의 레이저 소스 특성을 사용하여 최적의 UV 노출을 달성합니다. 또한 TML (Time Modulated Laser) 시스템을 사용하여 레이저 조명에서 일반적으로 볼 수있는 열 유도 왜곡을 줄입니다. ASML AT 1100은 또한 PM-1 (Placement Monitor) 및 웨이퍼 스테이지 도량형을 사용하여 고급 오버레이 성능과 정확도를 제공합니다. 기계는 X/Y 동안 최대 정확도를 보장하기 위해 X/Y에서 4nm, 각도 2 및 Z 5nm의 위치 정확도를 갖습니다. 이 기계에는 수동적 조정이 필요 없이 빠르고, 정확하며, 반복 가능한 정렬을 제공하는 통합 전동식 Co-Aligner가 장착되어 있습니다. 최고 수준의 안정성과 처리량을 보장하기 위해 AT 1100 은 지능형 서비스 모듈을 갖추고 있으며, 이 모듈은 사소한 문제를 감지하고, 운영자를 경고할 수 있습니다. 또한 포괄적인 프로세스 모니터링/검토 툴이 통합되어 프로세스 제어를 극대화할 수 있습니다 (영문). 결론적으로, ASML AT 1100은 0.6 미크론 해상도의 반도체 응용 프로그램과 TML 시스템 및 통합 공동 정렬기 (integrated co-aligner) 와 같은 고급 기능을 위해 설계된 정밀 웨이퍼 스테퍼입니다. 이 시스템은 지능형 서비스 모듈 (Service Module) 과 프로세스 모니터링 (Process Monitor) 기능 덕분에 높은 수준의 정확성과 신뢰성을 제공합니다. AT 1100은 반도체 웨이퍼 제조를 위해 신뢰할 수 있고 가능한 선택입니다.