판매용 중고 ASML 5500 / 100C #9032667

ASML 5500/100C는 웨이퍼 스테퍼로, 반도체 제작에 사용되는 리소그래피 머신의 한 유형입니다. 이 기계 는 일련의 "렌즈 '와 거울 을 사용 하여" 와퍼' 로 옮길 수 있는 "이미지 '를 만든다. ASML 5500/100C (ASML 5500/100C) 는 고해상도 모델로, 매우 세밀하게 이미지를 제작할 수 있으며, 이를 통해 고성능 사양을 가진 디바이스를 제작할 수 있습니다. 5500/100C는 최대 노출 크기가 100mm 인 웨이퍼 (wafer) 에 이미지를 전송하여 최상위 수준의 리소그래피를 만들 수 있습니다. 160 밀리미터 (mm) 와 200 밀리미터 (mm) 자동 초점 투영 렌즈가 장착되어 다양한 패턴과 기판을 인쇄하여 높은 수준의 정확성과 반복성을 제공합니다. 5500/100C는 또한 2 개의 고해상도 마스크 (1 배는 1 배, 5 배는 5 배) 를 갖추고 있으며 8 가지 수준의 조명 수준을 만들 수 있습니다. 광학 장비는 트윈 모션 (TwinMotion) 스테이지와 통합되어 최대 3 개의 웨이퍼를 수용 할 수 있으며, 노출 된 웨이퍼와 노출되지 않은 웨이퍼 사이에서 이동할 때 높은 처리량을 허용합니다. 또한, ASML 5500/100C에는 고밀도 스테이지 포지셔닝 시스템이 장착되어 있어, 필요한 좌표에 웨이퍼를 정확하게 배치할 수 있습니다. 이것은 스테이지 위치에 대한 정확한 피드백을 제공하는 내장 모터 인코더 (BIST) 의 도움으로 수행됩니다. 기계는 또한 이미지를 정확하게 캡처 할 수 있도록 CCD 카메라를 갖추고 있습니다. ASML 5500/100C는 낮은 진공 환경 (low-vacuum environment) 을 특징으로하며, 대기 중 먼지 입자의 영향을 줄이는 데 도움이되며, 저온 환경은 렌즈와 거울이 지정된 공차 내에 유지되도록 보장합니다. 또한 5500/100C 는 다중 프로세스 통합 프로그램, 운영 추적을 위한 데이터 로깅 장치 (data logging unit for tracking production), 실시간 피드백을 위한 자동 모니터링 시스템 (automated monitoring machine for real-time feedback) 과 같은 고급 기능을 갖추고 있습니다. 전반적으로, 5500/100C는 고품질의 고해상도 웨이퍼 스테퍼로, 고급 리소그래피의 정확성과 반복성을 향상시키는 다양한 기능을 제공합니다. 다양한 기능을 갖춘 ASML 5500/100C 는 고성능 반도체 (HPD) 디바이스를 생산할 수 있는 신뢰할 수 있는 솔루션으로, 다양한 기능을 갖추고 있으며 이미지 (세밀한 수준의 이미지) 를 제작할 수 있습니다.