판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS Endura 5500 #158867
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판매
ID: 158867
PVD system, 8"
Mainframe configuration:
Transfer Chamber:
Position 1: Process Al, Standard Body, Clamped Heater
Position 2: Process Ni, Standard Body, Clamped Heater
Position 3: Process SiN, Wide Body, Clamped Heater with Shutter
Position 4: N/A
Buffer Chamber:
Position A: Pass-Thru
Position B: Cool Down
Position C: PCII
Position D: Blank
Position E: Blank
Position F: Orienter Degas
LLK Narrow Body Manual Stage
(2) HP Robots
(3) MDX L6 Power supplies
EDWARDS IQDP 80 System pump with blower
ChC backing: EDWARDS IQDP 40
Chucks are standard clamped with heater
Demonstrable
Installed
1995 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS/AKT Endura 5500 원자로는 반도체 제조에 사용되는 다목적 도구입니다. AKT Endura 5500은 실리콘, 폴리 실리콘, 알루미늄, 갈륨 비소 및 이산화실리콘을 포함한 다양한 기질을 식각 할 수있는 고 처리량, 건식 에치 플라즈마 프로세서입니다. 5500은 할로겐 기반 플라즈마를 사용하여 정확한 에치 프로세스를 수행하기 위해 RIE (on-board reactive ion etch) 스테이션을 통합하여 물질 폐기물없이 정확한 엔드 포인트 감지를 보장합니다. 또한 5500은 원격 임피던스 매칭 변압기 (impedance matching transformer) 를 갖춘 강력한 플라즈마 소스를 제공하여 프로세스 최적화의 유연성을 높입니다. 5500은 고성능 진공실을 장착하여 에치 레이트 (etch rate) 에 민감한 재료로 에치 기능을 확장합니다. 에치 (etch) 작업에서 5500의 유연성과 높은 처리량 기능을 통해 원자로 (reactor) 는 모든 프로덕션 툴킷에 매우 중요한 기능을 제공합니다. 세라믹 기반 고밀도 플라즈마 소스는 에치 (etch) 프로세스를 정확하게 제어하며, 여러 레시피를 사용하여 사용자가 최적의 생산 수율을 위해 사용자 정의 할 수 있습니다. PLC 제어 아날로그 기반 사용자 인터페이스 (PLC Controlled, Analog-based user interface) 는 자주 필요한 매개변수에 빠르게 액세스하여 운영자가 신속하게 프로세스를 전환하거나 레시피를 수정할 수 있도록 합니다. 또한, 5500의 저압 건조 에치 (LPDE) 스테이션은 갈륨 비소 웨이퍼 (gallium arsenide wafer) 와 같은 깨지기 쉬운 기질의 정확하고 저온 에칭에 사용될 수있다. 이 시스템에는 통합 SCADA 소프트웨어 패키지 (AKT Automation) 가 포함되어 있어 5500을 기존 운영 환경에 완벽하게 통합할 수 있습니다. 사용자는 기존 운영 라인에 5500을 통합함으로써 구성 요소 운영 (production run) 을 극대화하고 운영 간의 다운타임을 줄일 수 있습니다. 또한 5500의 모듈식 (Modular) 설계를 통해 유지 관리 및 업그레이드가 간편해지며, 새로운 기능을 빠르고 효율적으로 추가할 수 있습니다. 이러한 모든 기능을 통해 AMAT ENDURA 5500 은 에치 (etch) 처리를 위한 고성능 유연한 솔루션으로, 모든 반도체 제작자에게 탁월한 선택입니다. 높은 처리량, 세부내용 (detail to detail) 및 클린 룸 지원 (cleanroom-ready) 디자인의 조합으로, 5500은 모든 반도체 시설의 에치 요구에 가장 적합한 제품입니다.
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