판매용 중고 AMAT / APPLIED MATERIALS VeritySEM #9280532
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ID: 9280532
웨이퍼 크기: 8"
Automated CD metrology system, 8"
Wafer shape: SNNF (Semi Notch No Flat)
Wafer cassette: PP Miraial, 12"
No SMIF Interface
Electron optical system:
Electron gun SCHOTTKY emission source (FEI)
Accelerating voltage: 300 V - 2000 V
Prober current: Low 5pA / Medium 10pA / High 20pA
3-Stage Electromagnetic lenses
System with boosting voltage beam deflector module
Objective lens:
Scan coil 2-stages: Electromagnetic deflection (X-axis & Y-axis)
Magnification: 1,000x - 400,000x (100um - 0.25um FOV)
Wafer imaging ability entire surface, 8"
Aspect ratio: >20:1
Resolution: 2nm (500V)
Optical microscope system:
Camera monochrome: CCD Camera
Magnification: 16x / 220x (450 um / 6000 um FOV)
Wafer imaging ability entire surface, 12"
Model SGI Fuel
SECS / GEM Communication interface:
Automated image archiving function / Online setup
Measurement function: Contact hole
Line edge analysis / CH Analysis / Slope
Measurement algorithm normal / Foot / Threshold
Wafer stage:
Wafer stage Anorad XY and Z Stage
Moving speed: 300 mm/sec
Function target faraday cup / Resolution target
Wafer transfer:
Wafer shape ability notch / Orientation flat
Pre-alignment sensing by CCD BAR (200/300 mm wafer)
External power distribution unit
Fun filter unit.
AMAT/APPLIED MATERIALS VeritySEM은 스캐닝 전자 현미경 (SEM) 으로, 반도체 산업의 고급 고장 분석 및 프로세스 개발을 위한 뛰어난 이미징 기능과 정밀 제어를 제공합니다. 이 다기능 장비는 고해상도 이미징 (high-resolution imaging) 에서 분광학적 분석 (spectroscopic analysis) 에 이르기까지 다양한 고급 기능을 제공하며 일관성 있고 정확한 이미징 결과를 위한 안정적이고 안정적인 플랫폼을 제공합니다. AMAT VeritySEM은 가변 압력 SEM 시스템으로, 매우 높은 진공 및 낮은 진공 이미징 기능을 제공합니다. 저진공 (low-vacuum) 모드는 표본 충전을 방지하기 위해 비활성 가스 하에서 풀 레인지 영상을 포함하여 0.1-50 토르 (torr) 의 광범위한 압력에 대한 표면 영상 및 분석을 가능하게합니다. 이 장치는 또한 빠른 진공 밸브 제어 기술 (fast vacuum valve control technology) 을 갖추고 있어 표본실의 빠르고 안정적인 제거 및 컨디셔닝을 보장합니다. 이 진공 (vacuum) 기술은 이미징 모드 및 조건에 대한 정확한 제어 (control over imaging mode) 와 결합하여 사용자가 이미지에 대한 일관되고 정확한 이미징 결과를 얻을 수 있습니다. APPLIED MATERIALS VeritySEM은 고급 이미징 기능 외에도 고급 분광학 기능도 제공합니다. 효율적이고 자동화 된 샘플 처리 (sample handling) 및 고 2 차 전자 수율은 다양한 분광 분석 도구와 결합하여 개별 구성 요소 및 나노 스케일 이미징 (nanoscale imaging) 의 작은 기능 크기에서 뛰어난 해상도와 대비를 제공합니다. VeritySEM은 EDX, WDX, SEI 분광법 및 CL 분석과 같은 다양한 분석 기술을 지원합니다. AMAT/APPLIED MATERIALS VeritySEM은 빠르고 자동화된 샘플 처리 및 포지셔닝을 제공하는 통합 스팟 분석 제어 모듈과 함께 제공되며, 견고한 샘플을 위한 신호 대 잡음비 (signal-to-noise ratio) 가 대폭 향상되어 검증된 안정성을 제공합니다. IAS (Integrated Image Analysis Machine) 는 강력한 명암비 제어 및 측정 기능과 함께 고해상도 이미징 (High-Resolution Imaging) 및 저소음 (Low Noise) 기능을 갖추고 있으며, 그 외의 어려운 샘플에 대한 탁월한 미세 이미징을 제공합니다. AMAT VeritySEM은 분석 결과의 빠른 처리 (turnaround of analysis) 를 가능하게 하며, 자동화된 표본 포지셔닝, 통합된 스팟 분석, 고도로 상세한 이미지 분석, 자동화된 표준 검증 등의 고급 기능을 통해 다양한 샘플을 통해 안정적이고 빠른 결과를 얻을 수 있습니다. 반도체 업계의 첨단 고장 (Advanced Failure) 분석 및 프로세스 개발 (Process Development) 을 위한 신뢰할 수 있는 도구이며, 매우 경쟁력 있는 가격으로 독보적인 강력한 기능을 제공합니다.
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