판매용 중고 VEECO Nexus PVD-MT #9233171

VEECO Nexus PVD-MT (Physical Vapor Deposition - Multi-Target) 는 광전자, 광전자, 평면 패널 디스플레이 및 기타 산업에 사용되는 다양한 기술에 적합한 고품질 필름을 효율적으로 생산하도록 설계된 최첨단 생산 원자로입니다. 고급 컴퓨터 컨트롤러 기술을 활용하여 PVD-MT는 다양한 금속, 금속 산화물 (metal oxide), 비금속 필름 (non-metal film) 을 배치할 수 있으므로 원하는 두께와 매끄러움의 다양한 재료로 제품을 사용자 정의할 수 있습니다. PVD-MT 의 검증된 유연성을 통해 다양한 운영 요구 사항을 충족할 수 있습니다. PVD-MT는 모듈 식 금속 세라믹 챔버 (metal-ceramic chamber) 설계를 기반으로하며 강력한 전원 공급 장치에 의해 구동됩니다. 여러 개의 표적이 챔버의 둘레를 따라 배치되어, 섭씨 수백 도까지 가열 할 수 있습니다. 방은 또한 최대 4 개의 공정 가스를 보유하도록 구성 될 수 있으며, 이는 산화물, 질화물 및 기타 물질의 증착을 가능하게한다. 고급 컴퓨터 컨트롤러 (advanced computer controller) 는 프로세스 매개변수를 최적화하여 균일성과 재생성을 향상시킵니다. PVD-MT (PVD-MT) 의 주목할만한 특징 중 하나는 공정 온도의 높은 제어 정확성과 균일성입니다. 만족스러운 결과를 얻기 위해 고급 컴퓨터 컨트롤러 (advanced computer controller) 를 사용하면 여러 사전 설정된 레시피를 사용하여 다양한 프로세스 매개변수를 조정할 수 있습니다. 예를 들어, 사용자는 속도 컨트롤러 (Speed Controller) 를 사용하여 목표 (Target) 의 이동을 조절하여 프로세스에 대한 보다 나은 제어를 수행할 수 있습니다. PVD-MT는 최소 사용자 개입 (user intervention) 을 통해 손쉬운 유지 관리 및 청소를 위해 설계되었으며, 따라서 유전체 격리 및 차폐 된 쿼츠 RF 전극을 사용하여 효과적이고 효율적인 작동을 보장합니다. 또한 고급 설계는 구성 요소의 수명을 보장합니다. 챔버 (chamber) 의 조절 가능한 상부 및 하부 배플은 또한 효율적인 작동을 위해 우수한 입자 여과를 제공합니다. 전반적으로 Nexus PVD-MT는 안정적이고 효율적인 생산 원자로로, 프로세스 매개변수를 완벽하게 제어합니다. 그 효율적 인 설계 는 또한 여러 가지 재료 를 배치 할 수 있게 해 주며, 조정 가능 한 공정 "레시피 '는" 필름' 을 제작 할 때 높은 수준 의 정확도 와 균일성 을 얻을 수 있게 해 준다. PVD 기술을 활용하는 모든 업계에서 탁월한 선택입니다.