판매용 중고 VEECO / EMCORE TurboDisc K465i GaN #9375121

VEECO TurboDisc K465i Gallium Nitride (GaN) 원자로는 질화물 화합물 반도체 재료의 에피 택시 성장을 위해 설계된 전자 레인지 장치입니다. 장비에는 2 개의 K465i GaN 원자로가 장착되어 있어 강력하고 안정적인 2 챔버 생산 도구입니다. K465i 원자로는 최첨단 klystron 기반 마이크로파 기술과 고급 컴퓨터 제어 및 모니터링을 결합합니다. 이 조합을 통해, 웨이퍼 (wafer) 에 최적 균일성을 생성하고 저온을 촉진하기 위해 매우 정확한 마이크로파 전력 분배, 모니터링 및 제어를 제공 할 수 있습니다. K465i 원자로는 -10 ° C ~ + 450 ° C의 제어 가능한 기판 온도 범위와 사이드 월 난방 코일이 필요하지 않은 가열 석영 튜브를 갖추고 있습니다. K465i는 가변 초점, 균일 한 공동 방사선 패턴, 선형 가변 필드 프로파일 (linear variable field profile) 로 인해 큰 기판 크기에 걸쳐 균질 한 성장을 할 수 있습니다. V 자형 공동 설계 (V-shaped cavity design) 는 넓은 각도의 범위를 제공하여 에피 택시 레이어 전체에서 균일성을 향상시키는 반면, 디지털 제어 시스템은 더 나은 필터 제어를 제공합니다. ASHS (Advanced Substrate Heating Unit) 는 산소가없는 환경에서 가열되는 웨이퍼에 따라 비활성 가스 방출 없이도 정밀한 열 예산 제어를 허용합니다. 또한 ASHS는 완전한 디지털 온도 조절, 보다 정확한 기판 온도 측정, 자동 튜닝 (Automatic Tuning) 을 제공하여 최상의 결과를 보장합니다. 다른 기능으로는 다양한 구성에서 완전한 유연성을 제공하는 고급 잠금 장치 (Advanced Locking Machine) 와 외국 재료의 부주의한 섭취를 방지하기 위해 접촉하지 않는 전기 연동 핀 (non-contact electrical interlock pin) 이 있습니다. K465i GaN 원자로에는 마이크로파 (microwave) 전송 및 정확한 전력 커플링을 위한 마이크로파 전력 모니터링 시스템도 탑재되어 있습니다. 또한, 수신기에는 진공 감지 포트가 있으며, 이를 통해 실시간 모니터링과 엄청난 압력의 절대 정확성이 가능합니다. VEECO/EMCORE TurboDisc K465i GaN 원자로는 고품질 에피택셜 웨이퍼 생산을 위한 안정적이고 강력한 도구입니다. 최적화된 균일성, 정밀한 온도 조절, 뛰어난 기판 가열 및 고급 디지털 제어 시스템을 제공합니다. 이러한 기능은 모든 복합 반도체 epitaxial 프로젝트에 이상적인 선택입니다.