판매용 중고 VEECO / EMCORE K465i #9233939

VEECO/EMCORE K465i 는 반도체 업계에서 사용하도록 설계된 Ion Implantation 툴입니다. 기판의 물리적, 전기적 특성을 수정하기 위해 다양한 원소의 이온 (ion) 을 사용하는 다용도, 고 처리로입니다. 원자로는 0.5 ~ 750 KeV의 광범위한 에너지 범위를 사용하며, 이식 속도는/cm2/min에서 1.25e12입니다. 이를 통해 이식 용량 (implant dose) 과 깊이 (depth) 를 기판으로 정확하게 제어하고 이식 된 요소의 유형을 제어 할 수 있습니다. 원자로는 진공 챔버, 이온 소스, 셔터 및 검출기 시스템으로 구성됩니다. 진공 챔버에는 1x10-8 토르 (Torr) 의 진공이 포함되어 이온을 기질로 이식 할 수 있습니다. 이온 소스에는 다양한 에너지의 Ar, Cs, Xe 및 N 등의 요소가 포함되어 있어 이온을 올바르게 이식 할 수 있습니다. 셔터는 이온의 빔을 제어하여 정확한 스캐닝과 정확한 임플란테이션을 보장합니다. 검출기 (Detector) 시스템은 플롯 패턴을 모니터링하여 정확한 스캐닝을 달성하고 이식할 영역의 정확한 측정을 가능하게 합니다. VEECO K465i (VEECO K465i) 는 공구의 올바른 작동을 유지하는 데 도움이 되는 아날로그 퍼지 논리 유형 컴퓨터 컨트롤러입니다. 또한 컨트롤러는 빔 전원 (beam power) 과 전류 프로파일 (current profile) 을 세밀하게 조정하여 원하는 용량으로 처리합니다. 또한 컨트롤러는 전체 시스템을 모니터링하고 자동으로 이온 가속을 조정합니다. 이 도구는 다양한 비동기 임플란테이션 및 순차 임플란테이션 옵션을 허용하는 멀티 채널 웨이퍼 매퍼 (multi-channel wafer mapper) 를 갖추고 있습니다. 고급 스캐닝 전략 (예: 미세선 스캐닝, 2D 오버레이, 오프셋 이식) 을 구현할 수 있는 고해상도 이온 광학 시스템이 장착되어 있습니다. 이 시스템은 또한 전체 웨이퍼에 균일 한 이식 기능을 제공합니다. 이 도구는 빠른 턴어라운드 시간과 간편한 유지 관리를 위해 설계되었습니다. 안전한 작동을 위해 닫을 수있는 챔버 덮개, 비상 단추, 벨트 컨베이어 잠금 장치 (Belt Conveyor Lock) 와 같은 안전 기능이 포함되어 있습니다. 이 도구는 유지 관리를 염두에 두고 제작되었으며, 여러 구성 요소에 쉽게 액세스하고, 부품을 쉽게 교환할 수 있습니다. 이 도구는 온라인 유지 보수 및 임플란트 설명서를 통해 적절한 기능을 보장합니다. EMCORE K465i 는 반도체 생산에 적합한 고급 고출력 원자로입니다. K465i는 조절 가능한 빔 에너지 (beam energy), 고해상도 이온 광학 (high-resolution ion optics) 및 다기능 매퍼 (mapper) 를 통해 다른 응용 분야에 대한 임플란트 용량 및 임플란트 깊이를 정확하게 제어 할 수 있습니다. 또한 간편한 유지 보수 및 안전 기능을 통해 안정적으로 작동할 수 있습니다.