판매용 중고 VEECO / EMCORE E450 #9363532

VEECO/EMCORE E450 Epitaxial Reactor는 효율성이 극대화된 고성능 반도체 장치를 최적화하기 위해 설계된 첨단 CVD (Chemical Vapor Deposition) 장비입니다. 이 시스템은 독특한 고온, 고압 공정 챔버 (high-pressure process chamber) 를 특징으로하며, 최단 시간 내에 최고 품질의 반도체 필름을 생산할 수 있습니다. VEECO E450 원자로는 효율성과 안정성을 극대화하기 위해 단일 리프트, 철기저 용광로 구조로 설계되었습니다. 고급 이중 기화기 제어 장치 (Advanced dual vaporizer control unit) 는 공정 가스의 정확한 온도 조절을 위해 독립적 인 및 동시 기화기 연산을 모두 할 수있다. EMCORE E450 의 향상된 제어기 (Enhanced Control Machine) 는 프로세스 가스 흐름과 사전 프로그래밍된 레시피를 완벽하게 제어하여 최적의 에피택셜 성장을 지원합니다. 비활성 가스 정제 질소 흐름은 고급 진공 제어 도구 (advanced vacuum control tool) 의 일부로 매우 깨끗한 프로세스 환경을 유지하기 위해 사용되어 우수한 장치 생산량을 보장합니다. 통합 워터루프 퍼니스 (integrated water loop furnace) 는 전체 챔버 전체에서 최적의 온도 균일성을 제공하며 공정 환경에서 오염 및 입자 침입을 줄이는 데 도움이됩니다. 최첨단 원자로는 최대 6 인치 직경의 기판 크기를 지원하며 표준 6 인치 웨이퍼 캐리어 자산을 사용하여 샘플 로딩이 쉽습니다. E450의 독특한 '헤드 인 (head-in)' mech 디자인은 빠르고 쉬운 샘플로드 및 언로드 기능을 제공하며 필름 증착의 균일성을 최대화합니다. 미세한 산화물 에칭 공정 (fine oxide etching process) 기능은 독특하고 균일하지 않은 프로파일 설계를 사용하여 필름 균일성을 손상시키거나 표면 손상을 입히지 않고 에치 속도를 증가시킵니다. VEECO/EMCORE E450 은 고품질 및 강력한 반도체 디바이스를 생산하는 데 필수적인 툴로 간주됩니다. 고급 고온 프로세스 제어 모델, 비활성 가스 정화 컨트롤 (Inert Gas Purification Control) 및 초소음 진공 장비는 최고 수준의 수율 및 장치 안정성을 보장합니다. 또한, 내장 용광로는 프로세스 온도의 전체 범위에서 최대 온도 및 균일성 제어를 제공합니다. 이러한 기능은 모두 결합하여 VEECO E450 Epitaxial Reactor를 고급 장치 제작을위한 비교할 수없는 플랫폼으로 만듭니다.