판매용 중고 VEECO / EMCORE E400 #293641830

VEECO/EMCORE E400 은 광범위한 박막 증착 애플리케이션을 위해 설계된 소형 저에너지 플라즈마 원자로입니다. VEECO E400은 광전자 및 나노 기술 연구 및 제조에서 발견되는 박막 증착 요구를위한 이상적인 증착 플랫폼입니다. EMCORE E400 의 고유 한 형상에는 단일, 저압, 저에너지 포인트 플라즈마 소스가 내장 된 원통형 대상 챔버가 포함됩니다. 원자로는 단순 산화물 (simple oxides) 에서 복잡한 유기 분자에 이르기까지 다양한 물질의 빠르고 낮은 온도 처리를 위해 특별히 설계되었습니다. E400은 최대 몇 mT의 압력을 처리하고 분당 최대 7 표준 입방 센티미터 (sccm) 의 가스를 처리 할 수 있습니다. VEECO/EMCORE E400 은 AS/SM (Active Source/Substrate Matching) 및 D/M (Data Logging/Monitoring) 과 같은 여러 가지 고급 기술을 통해 배치 프로세스를 정확하게 제어 및 분석할 수 있습니다. AS/SM은 기판이 균등하게 가열되도록 하는 반면, D/M은 프로세스 매개변수에 대한 즉각적인 진단을 제공하여 품질 관리 (Quality Control) 및 프로세스 개발을 가능하게 합니다. 또한 VEECO E400은 ADS (Customized Automated Deposition System) 에 통합되어 다양한 기판에서 박막 (Thin film) 을 자동으로 처리할 수 있습니다. EMCORE E400 원자로는 매우 유연하며 소규모 배치 (batch) 생산과 대규모 생산 작업에 적합합니다. 단 몇 번의 마우스 클릭 (click of mouse) 만으로 조정이 가능하며, 임의의 증착 기판을 쉽고 빠르게 처리 할 수 있습니다. E400은 고온 기판, 저압 가스, 휘발성 화합물 등 특정 응용 프로그램의 정확한 증착 요구 사항을 충족시키기 위해 다양한 구성 요소로 구성 될 수 있습니다 (예: 고온 기판, 저압 가스, 휘발성 화합물). 간단히 말해, VEECO/EMCORE E400은 광전자 및 나노 기술 연구 및 제조에서 발견되는 다양한 박막 증착 요구를 위해 설계된, 유연하고 컴팩트 한 플라즈마 원자로입니다. 원통형 대상 챔버 (Cylindrical Target Chamber) 에 내장 된 저압 및 저에너지 포인트 플라즈마 소스는 정밀한 프로세스 제어를 제공하는 반면, 광범위한 구성 요소로 구성되는 기능은 사용자 정의 증착 요구 사항을 가능하게합니다. VEECO E400은 소규모 배치 및 대용량 프로덕션 실행을 모두 위한 완벽한 선택입니다.