판매용 중고 UNAXIS / OERLIKON / ESEC KAI-1 1200 Gen 5 #9195317

ID: 9195317
빈티지: 2008
PECVD System Reactor (Industrial glass size): Version of commercial KAI 1200 machines inside OERLIKON PV module turn-key production lines Amorphous and microcrystalline thin silicon film deposition 1.1 m x 1.3 m glass substrates of 2-4 mm thickness (2) Reactors: aSi, µcSi layer deposition Load lock Glass loading table (Extractable to deliver glass into load lock) Process unit with (2) PECVD reactors Equipped with ADVANCED ENERGY Cesar 4 kW 40.68 MHz RF Generator (15) Mass flow controllers IDEM MFCs Max temp: 200°C EBARA Dry pumps Front loader system Films deposited: aSi/µcSi tandem thin film silicon solar cells With (Containing intrinsic aSi and µcSi films and their carbon-containing /p- and n-doped declinations) Self cleaning process with NF3 (No residues in both reactors) Gas supply and pump connected Spare parts included 2008 vintage.
UNAXIS/OERLIKON/ESEC KAI-1 1200 Gen 5 원자로는 다양한 프로덕션 어플리케이션에서 향상된 성능을 제공하는 고성능 고급 기술 에치 도구입니다. 이 도구는 원피스 디자인이며 강력한 가변 전력, 고급 균일성, 플럭스 전달 제어 기능을 갖추고 있습니다. 고해상도 RF 생성기 (High-Resolution RF Generator) 는 다양한 주파수로 작업할 수 있으며, 이를 통해 사용자는 다양한 에치 (etch) 애플리케이션의 프로세스 조건을 프로그래밍할 수 있습니다. 또한 추가 제어를 제공하는 통합 코일 및 로드 조정 기능도 있습니다. 원자로는 트랜지스터 게이트 에치, 핀 에치 (fin etch), CPW 에치 등 다양한 전자 장치 응용 프로그램의 생산을 위해 설계 및 설계되었습니다. 또한 프로세스 성능을 최적화하기 위해 정교한 로드 및 코일 조정을 제공합니다. 또한 사용자는 CD, 메모리 스틱 (memory stick) 또는 장치의 터치스크린 디스플레이를 통해 직접 레시피를 입력할 수 있습니다. ESEC KAI-1 1200 Gen 5 원자로에는 고급 진공 관리 기능이 장착되어 있습니다. 여기에는 에칭 프로세스를위한 안정적인 대기를 제공하기 위해 동봉 된 원통형 나선형 형상이 있습니다. 이를 통해 사용자는 압력이 가해지더라도 프로세스 레벨이 다른 프로세스 레벨 (process level) 에서 일관된 결과를 계속 가져올 수 있습니다. 이 도구의 통합 액체 분사 시스템 및 RF 발전기는 에칭 프로세스 성능을 보다 효과적으로 제어합니다. 사용자는 플럭스 (flux) 수준뿐만 아니라 에치 화학 (etch chemistry) 을 조정하여 균일성이 큰 더 높은 수율을 달성 할 수 있습니다. 이를 통해 보다 빠르고 효율적인 에치 생산 프로세스가 가능합니다. 또한, 이 도구는 사용자가 효율성을 높일 수 있도록 독특한 수냉식 (water-cooled) 시스템으로 설계되었습니다. 마지막으로 UNAXIS KAI-1 1200 Gen 5 원자로는 안전과 전력 효율을 염두에두고 설계되었습니다. 자동 차단 시스템과 정적 차체 (Anti-Static Body) 가 장착되어 있습니다. 또한, 이 툴의 상태 보고 (Status Reporting) 기능을 사용하면 디바이스의 전반적인 성능과 전력 소비량을 모니터링하고 평가할 수 있습니다.
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