판매용 중고 ULVAC CME-200J #293828113

ULVAC CME-200J는 고급 반도체 제조 및 연구 응용 분야에서 고품질의 박막 증착을 위해 설계된 최첨단 플라즈마 강화 화학 증기 (PECVD) 원자로입니다. 세계 최고의 진공 장비 및 기술 솔루션 공급업체인 ULVAC 가 개발한 CME-200J 는 탁월한 공정 제어, 유연성, 생산성, 탁월한 통일성 (unifority) 및 필름 (film) 기능을 갖춘 다양한 박막 증착 기능을 제공합니다. ULVAC CME-200J의 핵심에는 고급 플라즈마 처리 기술 (Plasma Processing Technology) 이 있는데, 이를 통해 증착 과정을 정확하게 제어하여 다양한 기판 재료에서 균일하고 결함이없는 박막 (Thin film) 을 달성 할 수 있습니다. 원자로에는 고이온화 플라즈마를 생성하는 고출력 RF 플라즈마 소스 (Plasma Source) 가 장착되어 있어 필름 품질과 두께 제어가 향상됩니다. 플라즈마 소스 (Plasma Source) 는 다양한 주파수와 전원 수준에서 작동할 수 있으며, 각기 다른 필름 증착 요구사항에 맞게 프로세스 조건을 최적화할 수 있는 유연성을 제공합니다. CME-200J (Dual-Chamber Design) 는 별도의 프로세스를 갖춘 이중 챔버 설계와 웨이퍼 처리 향상 및 주기 시간 단축을위한 로드 잠금 챔버를 갖추고 있습니다. 이 공정 챔버 (Process Chamber) 에는 공정 가스, 전구체 유량 및 증착 중 압력 수준을 정확하고 신뢰할 수있는 최첨단 가스 전달 장비가 장착되어 있습니다. 로드 잠금 챔버 (Load Lock Chamber) 를 사용하면 웨이퍼를 효율적으로 로드 및 언로드할 수 있으며, 프로세스 실행 사이의 다운타임을 최소화하고, 운영 환경의 처리량을 높일 수 있습니다. ULVAC CME-200J의 주요 강점 중 하나는 고급 온도 조절 시스템 (Advanced Temperature Control System) 으로, 강착 중 기판 온도를 정확하게 조절 할 수 있습니다. 이 장치는 작은 조각에서 큰 웨이퍼 (wafer) 까지 다양한 기판 크기와 유형을 수용할 수 있으며, 전체 기판 표면에 걸쳐 안정적인 온도 프로파일을 유지 할 수 있습니다. 이 온도 조절 수준은 응력, 굴절률, 결정성 (crystallinity) 과 같은 맞춤형 특성을 갖는 균일 한 필름의 증착에 필수적입니다. CME-200J 는 고급 프로세스 (Advanced Process) 기능과 더불어 사용자 친화적인 인터페이스를 제공하여 배치 (Deposition) 프로세스를 손쉽게 운영 및 모니터링할 수 있습니다. 원자로에는 가스 유량 (gas flow rate), 플라즈마 특성 (plasma properties), 기판 온도 (기판 온도) 와 같은 중요한 프로세스 매개변수에 대한 실시간 모니터링이 가능한 포괄적 인 제어 기계가 장착되어 있습니다. 운영자는 직관적인 소프트웨어 인터페이스를 통해 프로세스 레시피를 손쉽게 프로그래밍하고 조정할 수 있으므로 프로세스 최적화 (Quick Process Optimization) 및 레시피 개발 (Recipe Development) 을 신속하게 수행할 수 있습니다. 전반적으로 ULVAC CME-200J는 PECVD 기술에 대한 새로운 표준을 설정하여 반도체 및 연구 응용 프로그램에서 박막 증착에 탁월한 성능, 안정성 및 유연성을 제공합니다. CME-200J는 고급 플라즈마 처리 기능, 듀얼 챔버 디자인, 온도 조절 도구, 사용자 친화적 인터페이스 (user-friendly interface) 를 통해 까다로운 생산 환경과 탁월한 필름 품질 및 프로세스 제어가 필요한 최첨단 연구 프로젝트에 적합합니다.