판매용 중고 TEL / TOKYO ELECTRON Triase+ #293763037

TEL/TOKYO ELECTRON Triase + 는 고급 반도체 제조 공정의 요구를 충족시키기 위해 설계된 최첨단 플라즈마 처리 장비입니다. 이 원자로는 고급 기술과 혁신적인 기능을 통합하여 반도체 (semiconductor) 장치 제작에 고성능, 정밀, 신뢰성을 제공합니다. TEL Triase + 원자로는 고밀도 플라즈마 소스를 사용하여 정확한 재료 에칭 및 증착 과정을 위해 제어 된 플라즈마 환경을 생성하고 유지합니다. 이 시스템은 무선 주파수 (RF) 와 전자 레인지 (microwave) 에너지의 조합을 통합하여 고품질 및 일관된 처리 결과에 필요한 플라즈마 밀도와 균일성을 달성합니다. 원자로 챔버 (Reactor chamber) 는 거친 플라즈마 환경과 처리 중 발생하는 고온을 견딜 수있는 고급 물질로 구성됩니다. 챔버 (chamber) 의 설계는 균일 한 처리 및 최소 입자 오염을 위해 기판 표면에 걸쳐 공정 기체 및 플라즈마 에너지의 효율적인 분포를 보장한다. TOKYO ELECTRON Triase + Reactor의 주요 특징 중 하나는 고급 프로세스 제어 장치 (Advanced Process Control Unit) 로, 프로세스 매개변수를 실시간으로 모니터링하고 조정하여 처리 결과를 최적화합니다. 이 기계는 고급 센서 및 피드백 메커니즘을 통합하여 프로세스 전반에 걸쳐 플라즈마 매개변수, 가스 유량 (gas flow rate) 및 온도 조건을 정확하게 제어합니다. "트리아제 '+ 원자로 에는 공정" 가스' 와 그 유속 을 정확 히 제어 할 수 있는 여러 가지 고급 "가스 '전달" 시스템' 이 갖추어져 있다. 이 도구는 다양한 에칭 (etching) 및 증착 프로세스에 필요한 다양한 프로세스 가스와 전구체를 수용할 수 있으며, 프로세스 개발 및 최적화에 유연성이 있습니다. 원자로는 또한 최첨단 기판 처리 자산 (State-of-Art 기판 처리) 을 특징으로하여 처리 중 기판의 정확한 위치와 제어를 보장합니다. 이 모델을 사용하면 대용량 기판을 높은 정밀도 및 반복 (repeatability) 으로 처리하여 여러 기판에서 일관된 처리 결과를 얻을 수 있습니다. TEL/TOKYO ELECTRON Triase + 원자로는 깊은 실리콘 에칭, 유전체 에칭, 금속 에칭 및 기타 중요한 프로세스를 포함한 고급 반도체 제조 공정의 엄격한 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. 이 장비는 높은 선택성 (selectivity) 과 균일성 (unifority) 으로 높은 종횡비 (aspect ratio etching) 를 달성 할 수 있으며, 설계 사양이 단단한 복잡한 반도체 장치를 제작하는 데 이상적입니다. TEL Triase + 원자로는 확장성을 고려하여 설계되었으며, 프로세스 개발 시 처리량 및 유연성 향상을 위해 여러 프로세스 모듈을 통합할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 향후 프로세스 요구 사항과 반도체 업계의 기술 발전을 수용할 수 있도록 손쉽게 업그레이드할 수 있도록 설계되었습니다 (영문). 전체적으로 TOKYO ELECTRON Triase + 는 고급 반도체 제조 응용 분야에 고성능, 정밀성 및 신뢰성을 제공하는 최첨단 플라즈마 처리 장치입니다. 첨단 기술, 혁신적인 기능, 견고한 설계를 갖춘 트리아제 + 원자로 (Triase + reactor) 는 반도체 업계의 발전하는 요구를 충족시키고 반도체 소자 제작의 혁신을 이끌어내는 데 적합하다.