판매용 중고 SENTECH SI ALD LL #293651896
URL이 복사되었습니다!
확대하려면 누르십시오
SENTECH SI ALD LL 원자로는 뛰어난 균일성과 증착 매개 변수에 대한 제어가 개선 된 저압 환경에서 나노 스케일 박막 (ALD) 의 원자 층 증착 (ALD) 을 수행하도록 설계된 최첨단 장비입니다. 이 시스템은 3 가지 주요 구성 요소 (원자로 챔버, 장치 컴퓨터 및 제어 장치) 로 구성됩니다. 원자로 챔버 (reactor chamber) 는 기판, 소스 재료 및 반응 가스를 수용하는 스테인리스 스틸 진공 챔버로 구성됩니다. 통합 자원 처리 장치 및 차등 펌핑 기계도 포함됩니다. 내부에는 기판 증착 및 공정 제어를 모니터링하기위한 Alkanicon ™ 전자 에너지 분석기 (EEM) 가 장착되어 있습니다. 뿐 만 아니라, 약실 에는 여러 가열 요소 와 "터보 '" 펌프' 가 갖추어져 있어 원하는 분위기 와 압력 을 유지 한다. 공구 컴퓨터는 모든 기계 기능의 작동을 위한 컬러 터치 스크린 디스플레이 (Touch Screen Display) 를 포함하는 소형 상자입니다. 이 장치에는 ALD 프로세스를 자동으로 조정하고 제어할 수 있는 강력한 프로세서가 장착되어 있습니다. 이 소프트웨어에서는 사용자가 배치 조건 (deposition condition) 과 매개변수 (parameter) 를 정의하고 수동 조정을 허용하여 프로세스를 프로그래밍할 수 있습니다. 자산에는 또한 최적화 및 재생 가능한 프로세스를 보장하기 위해 사전 프로그래밍 된 제어 시스템이 있습니다. 마지막으로, 제어 단위 (nucleus) 는 완전히 동봉되며 SENTECH 모델의 모든 전기 구성 요소를 포함합니다. 여기에는 여러 아날로그 포트, 디지털 신호 프로세서 (DSP) 장비, 서보 제어 장치 및 고정밀 광섬유 온도 제어 시스템이 포함됩니다. 이 장치는 챔버 (chamber) 에 외부에서 장착할 수 있으며 설치 및 유지 보수가 용이한 모듈식 설계를 갖추고 있습니다. SI ALD LL 원자로는 안전하고 효율적인 방식으로 나노 스케일 박막 (nanoscale thin film) 의 정확한 증착을 제공하도록 설계된 현대적이고 기능이 풍부한 장치입니다. 첨단 기술 구성 요소로, 이 기계는 다양한 증착 과정을 처리 할 수 있으며, 바이오 정보학, 반도체, 항공 우주와 같은 산업에 적합합니다.
아직 리뷰가 없습니다