판매용 중고 PLASMATHERM LAPECVD LMTM #9382228

PLASMATHERM LAPECVD LMTM은 고급 저압, 저온, 마이크로 파 플라즈마 강화 화학 증발 (CVD) 원자로입니다. LAPECVD LMTM은 저온 및 압력 성능으로 구별되는 독특한 고급 흡수 모드 CVD 원자로입니다. 반응로의 저온 및 압력 능력은 반응 챔버 자체에서 생성 된 마이크로파 플라즈마 피드 가스 (microwave-plasma feed gas) 를 사용하여 활성화된다. 이를 통해 증착 프로세스에 대한 더 높은 수준의 제어가 가능합니다. 원자로에는 4 인치 ID 콘센트 핫 존, 2 인치 ID 콜드 존 및 이동식 암에 위치한 가변 주파수 마이크로파 발전기가있는 원통형 스테인리스 스틸 챔버가 있습니다. 전자레인지 창을 포함하는 쿼츠 튜브 (quartz tube) 와 상단 하중 시스템 (top load system) 이 장착되어 있습니다. 최상위 하중 시스템은 증착 과정을 제어하기 위해 조정 할 수있는 4 개의 반 구형 플레이트 (semi-spherical plate) 로 구성됩니다. 플라즈마 피드 가스는 슬릿 밸브 (slit-valve) 를 통해 제어 된 유속에서 반응 챔버에 도입된다. 이어서, "가스 '의 흐름 은" 디퓨저' 로 향하게 되며, 그 로 인해 "플라즈마 '는 챔버' 내부 에 균질 하게 된다. 디퓨저 (diffuser) 는 압력 조절기 (pressure regulator) 역할을하여 약실을 저압 및 고압 정권에서 작동 할 수 있습니다. 직류 (DC) 바이어스 전원 공급 장치는 플라즈마 급지 가스의 특성을 제어하는 데 사용됩니다. 음의 바이어스 전압 (negative bias voltage) 을 적용하면, 전자가 기판을 향해 가속되어 반응성이 높아지고 증착률이 향상됩니다. "마이크로 '파 발전기 는" 플라즈마' 정비 모듈 에 연결 되어 있는데, 이것 은 원하는 동작 "파라미터 '에서" 플라즈마' 장 을 유지 하는 데 도움 이 된다. 제대로 조정되면, 플라즈마의 공명 특성은 스타트 업 (start-up) 및 전체 프로세스에서 유지 될 수 있습니다. 이것은 기판에서 고체 필름의 보다 균일 한 증착을 보장한다. PLASMATHERM LAPECVD LMTM은 다양한 기판에서 고품질 박막 코팅을 생성 할 수 있습니다. 가능한 적용의 예로는 산화물, 질화물, 예방 코팅 및 합금의 증착이 포함됩니다. 다용도 및 신뢰성 있는 성능으로 인해 거의 모든 증착 과정에서 탁월한 선택이 가능합니다.