판매용 중고 PICOSUN R-200 #293831267

PICOSUN R-200
제조사
PICOSUN
모델
R-200
ID: 293831267
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor.
PICOSUN R-200은 가공할 수있는 일반 배치 처리 원자 층 증착 (ALD) 원자로입니다. 박막 코팅 (Thin Film Coating) 과 재료 증착 (Deposition of Material) 을 정확하게 제어 할 수있는 강력하고 반복 가능한 도구이며, 재료 과학 또는 상업 제조에서 연구 개발에 사용하기에 적합합니다. PICOSUN R 200은 스테인리스 (stainless) 원자로 챔버, 진공 장비 및 반응성 화학 물질의 사전 프로그래밍을위한 종합 외부 컨트롤러 및 소프트웨어 제품군으로 구성됩니다. 전체 시스템은 컴팩트성과 사용 편의성을 위해 설계되었습니다. CVD (chemical vapor deposition) 의 원리를 기반으로하며, 사용자가 제어하고, 반응물 가스를 단위로 정확하게 투여 할 수 있습니다. 사용자가 직접 제어할 수 있는 R-200 기능을 사용하면 배치 매개변수를 빠르고 쉽게 사용자 정의할 수 있고, 코팅 레이어를 정확하게 확인할 수 있습니다. 연속 또는 반 배치 (semi-batch) 작동 모드가 있으므로 높은 처리량과 낮은 오염으로 박막 증착이 가능합니다. 공정 압력 을 조절 할 수 있으며, 두께 가 수 "나노미터 '에서 수백" 나노미터' 에 이르는 구성 요소 를 생산 할 수 있다. R 200의 다목적 설계로 반도체, 화학 물질, 광전자를 포함한 여러 응용 분야에 사용될 수 있습니다. 저온 (150 ° C 미만) 및 정상 온도 (최대 250 ° C) 프로세스에 적합한 기능을 갖추고 있습니다. 고출력 가열기 (high power heating machine) 는 빠르고 안정적인 온도 조절을 보장하며, 통합 화학 결합 활성화 메커니즘은 우수한 특성을 가진 강하고 등각 코팅을 생성합니다. PICOSUN R-200은 안전과 편의를 위해 설계되었습니다. 저전압 셧오프 (Clow Voltage Shoff) 가있는 비상 정지 (ESTOP) 의 2 단계 안전 도구와 처리 전과 처리 중에 불량 사양을 방지하는 장애 안전 밸브 자산이 있습니다. 또한, 표준 컨트롤 패널은 가스의 압력 및 온도를 쉽게 모니터링합니다. 피코순 R 200 (PICOSUN R 200) 은 상업용 제조 요구뿐만 아니라 재료 과학의 연구 개발을위한 혁신적이고 신뢰할 수있는 도구입니다. 박막 공정에 대한 정확한 제어를 통해 사용자는 정확한 등각 코팅 (conformal coating) 을 원하는 컴포넌트를 생성 할 수 있습니다. 사용자가 제어하는 기능, 안전하고 안정적인 운영, 다중 어플리케이션 호환성을 통해 R-200은 정확한 재료 증착 및 박막 프로세스에 이상적인 솔루션이 됩니다.
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