판매용 중고 PICOSUN R-200 #293628600

PICOSUN R-200은 연구 및 중소 규모 생산 응용 프로그램을 위해 설계된 소형 고성능 소형 APP (Atmospheric Pressure Plasma) 원자로 장비입니다. 이 시스템에는 최대 200W 출력, 스테인리스 스틸 챔버, 압력 챔버 및 완전 조절 가능한 공정 매개변수가있는 단일 고출력 RF 소스가 있습니다. PICOSUN R 200은 온도, 가스 흐름 및 압력에 대한 뛰어난 성능과 정확한 제어를 제공합니다. R-200 (R-200) 은 특허 된 차가운 대기 압력 플라즈마 (cold atmospheric pressure plasma) 기술을 사용하여 전체 챔버 볼륨에 걸쳐 매우 균일 한 플라즈마를 생성 할 수 있으며, 정확한 균일 성을 가진 웨이퍼 및 기타 기질의 증착과 에칭을 허용합니다. R 200은 MOEMS (Optoelectronic and Microelectrodynamic) 구조의 생산과 다양한 재료의 정확한 건조, 에칭 및 증착에 이상적인 솔루션입니다. 조정 가능한 공정 매개변수로, PICOSUN R-200은 또한 폴리머 및 코팅의 정밀 치료에 매우 적합합니다. PICOSUN R 200은 고급 프로세스 모니터링 및 제어 기능을 제공합니다. UI (사용자 인터페이스) 는 프로세스 시각화를 제공하며 흐름 속도, 압력 및 프로세스 온도를 독립적으로 제어합니다. 또한 R-200 은 통합 데이터 분석/보고 장치 (Integrated Data Analysis and Reporting Unit) 를 통해 프로세스를 실시간으로 모니터링하고 그에 따라 프로세스 매개변수를 조정할 수 있습니다. R 200 은 자동 웨이퍼 (Wafer) 로드 및 언로드 시스템을 제공하여 다운타임을 최소화하면서 Wafer 를 빠르고 정확하게 로드하고 언로드할 수 있습니다. PICOSUN R-200은 또한 온보드 및 외부 웨이퍼 정렬 기능을 모두 제공하여 매번 정확한 결과를 보장합니다. PICOSUN R 200은 합리적인 비용으로 고성능 결과를 제공하도록 설계된 효율적이고 안정적인 도구입니다. R-200 (R-200) 은 탁월한 프로세스 제어와 정확한 균일성을 바탕으로 다양한 재료를 정확하게 처리할 수 있는 완벽한 선택입니다.