판매용 중고 PICOSUN R-200 #293618159
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ID: 293618159
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor
Vacuum chamber: Stainless steel vessel with KF connection flanges
(2) RC-200 Reaction chambers: 6-Inlets
SH-200 Sample holder
Substrate holder, 8"
PicoPlasma Inductively coupled remote plasma source
Heated sample stage: Up to 750°C
Mesh cradle MC200 for 3D samples
Trough porous sample holder
Controller
Touch panel PC
Deposition: Oxide (SiO2, Al2O3 and TiO2)
Precursor sources:
(3) Picosolutions
(2) Boosted Picohot 200: Heated source up to 200°C
Boosted Picohot 300: Heated source up to 300°C
(2) Picogas connections for thermal ALD
(2) Picogas connections for PEALD with Ar carrier gas
O3 System: PZ-100 Picozone
PF-200 Diffusion enhancer
Chemical precursors:
Type / Element / Chemical
Picosolution / Al / Trimethylaluminium electronic grade
Picohot200 / Ba / Bis (1,2,4-Tritertiarybutylcyclopentadienyl) Barium
Picohot 200 / Ba / Bis (Tri-isopropylbutylcyclopentadienyl) Barium THD
Picohot200 / Ru / ⁿ4-2,3-Dimethylbutadiene ruthenium tricarbonyl
Picohot200 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picohot300 / Si / Bis (Diethylamido) Silane
Picosolution / Ti / Titanium (IV) Chloride
Picohot 200 / Ti / Titanium isopropoxide
Picohot200 / Ti / Titanium methoxide
Substrate loading:
Picoloader
Slit gate valve, 8"
Load lock
Manipulator
N2 Purge assy for load lock purge
Vacuum pump:
EBARA ESA70WD Dry vacuum pump
Flow rate: 420 m³/h
2-Stages pneumatic valve
Afterburner and mechanical foreline particle traps
Power supply: 400 V, 50 Hz, 3-Phase, 6 kW.
PICOSUN ™ PICOSUN R-200은 산업 생산 규모 높은 균일성 및 높은 처리량 표면 코팅 응용 프로그램을 위해 설계된 고급 ALD (Atomic Layer Deposition) 처리 장비입니다. 이 시스템은 다양한 응용 분야에 대한 반사 표면, 등각 표면, 광학 코팅 (optical coating), 박막 (thin film) 과 같은 산업 및 연구 응용 프로그램의 고품질 요구 사항을 충족하도록 설계되었습니다. PICOSUN ™ PICOSUN R 200 원자로는 모듈식 아키텍처 (modular architecture) 를 기반으로 하여 유연성과 확장성을 제공하므로 사용자가 특정 애플리케이션 요구에 맞게 장치를 사용자 정의할 수 있습니다. 이 기계는 다양한 표준 구성 요소를 장착할 수 있으며, 고유한 고객 요구 사항을 충족하기 위해 재프로그래밍됩니다. R-200 원자로의 주요 구성 요소에는 발전기, 반응물, 반응 챔버, 기판 홀더 및 배기가 포함됩니다. 발전기는 반응 챔버에 반응성 가스를 정확한 양으로 공급하여 코팅 (coating) 동안 높은 반복성을 보장한다. 진공 배기 도구 (vacuum exhaust tool) 는 각 사이클 후에 반응이 부산화되어 빠른 처리 시간과 신뢰할 수있는 결과를 제공합니다. R 200 원자로는 설치가 쉽고 최소한의 유지 보수가 필요한 소형, 무정비 설계를 갖추고 있습니다. 반응 챔버 (reaction chamber) 와 기판 홀더는 고품질의 스테인리스 스틸 (stainless steel) 로 만들어졌으며 깨끗함과 내구성을 보장하도록 설계되었습니다. PICOSUN ™ PICOSUN R-200 원자로는 대규모 생산을 위해 설계되었으며 최대 200mm 및 1000 x 1500mm 크기의 기판을 코팅 할 수 있습니다. 최대 80% 의 챔버 로딩과 최대 59 초의 ALD 사이클 시간을 통해 높은 처리량을 제공합니다. 챔버 균일성이 ± 2% 미만이고 두께가 ± 1 nm 미만인 균일성 필름 성장을 제공합니다. PICOSUN R 200 원자로는 Ceramics, Metals, Complex Oxides, Nitrides 및 Germanides의 다양한 영화를 처리 할 수 있습니다. 매우 까다로운 코팅 산업을 위해 빠르고, 안정적이며, 반복 가능한 영화 성장을 제공합니다. 이 자산은 다양한 연구 및 산업 응용 분야에 적합하며, 모든 표면 코팅 응용 프로그램에 뛰어난 필름 품질, 반복 가능성, 성능을 제공합니다.
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