판매용 중고 PICOSUN P-300BV #293769705

제조사
PICOSUN
모델
P-300BV
ID: 293769705
웨이퍼 크기: 6"
빈티지: 2021
Atomic Layer Deposition (ALD) reactor, 6" Cold source: TMA, H2O TEMAHF Hot source Film type: Al2O3, HfO2 2021 vintage.
PICOSUN P-300BV는 업계 최고의 UHV (Ultrahigh vacuum) 원자층 침착 (ALD) 원자로입니다. P-300BV는 세계 최고의 ALD 장비 제공 업체 인 PICOSUN에서 설계 및 제조합니다. 장비는 전자 빔을 필름 성장의 전원으로 사용합니다. PICOSUN P-300BV는 발자국이 작아 제한된 실험실 공간에 설치하는 데 이상적입니다. 또한 고급 광학 실시간 모니터링 시스템 (Optical Real-Time Monitoring System) 을 통해 프로세스를 정확하게 제어할 수 있습니다. 이 장치는 또한 낮은 공정 온도와 우수한 필름 균일성을 제공합니다. P-300BV는 복잡한 금속 산화물, 질화물 및 박막 스택의 매우 얇은 균일 한 층을 매우 높은 진공으로 증착시키는 데 적합합니다. PICOSUN P-300BV는 고효율의 기계로, 열 및 플라즈마 ALD와 같은 광범위한 공정 기술을 사용할 수 있습니다. 이 도구는 반응성 가스 분사 자산 (reactive gas injection asset) 을 포함하며, 가스 전구체와 기질 사이의 정확한 화학 반응을 기반으로 필름을 증착 할 수있다. P-300BV는 필름 품질의 최대 프로세스 효율성과 균일성을 제공하도록 설계되었습니다. 이 모델에는 다용도 챔버 (chamber) 디자인과 인젝터 (injector) 장비가 장착되어 있어 전구물질의 용량을 조절할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 정확한 샘플 포지셔닝을 용이하게하는 통합 로봇 처리 장치를 갖추고 있습니다. 또한, 이 기계는 고정밀도 백사이드 뷰 (in-situ optical monitor) 도구를 갖추고 있어 필름 품질을 실시간으로 측정할 수 있습니다. PICOSUN P-300BV는 또한 온도, 압력, 유속, 필름 두께 등의 증착 프로세스 매개변수를 모니터링하고 제어하는 데 사용할 수있는 완전한 소프트웨어 도구 제품군을 제공합니다. 이러한 소프트웨어 도구를 사용하여 프로세스 매개변수를 최적화하여 균일 및 고품질 필름을 생성할 수 있습니다. 마지막으로, P-300BV 는 자산의 성능을 보장하기 위해 다양한 안전 (Safety) 기능을 갖춘 간편한 유지 관리 및 운영을 위해 설계되었습니다. PICOSUN P-300BV는 다양한 ALD 프로세스에 대해 안정적이고 반복 가능한 성능을 제공하도록 설계되었습니다. 고급 기능과 강력한 성능을 갖춘 P-300BV는 모든 울트라 하이 진공 ALD 프로세스에 적합한 선택입니다.
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