판매용 중고 NOVELLUS Inova #9399582

NOVELLUS Inova는 반도체 재료의 증착 및 에칭을 위해 설계된 원자로입니다. 플라즈마 생성에 고주파 전력을 사용하는 ICP (Inductor-Coupled Plasma) 기술을 기반으로합니다. 이 원자로는 etchback, descum 및 barrier metal 프로세스를 포함한 다양한 응용 프로그램에 대한 뛰어난 공정 균일성을 제공합니다. Inova 는 독보적인 하드웨어/소프트웨어 기능을 통해 높은 가변성을 지닌 일관된 프로세스 균일성을 보장합니다. NOVELLUS Inova의 하드웨어에는 원통형 모양의 고출력 ICP 구동 인덕터 (inductor) 가 포함되어 있으며, 고주파수 호를 생산할 수 있으며, 고전압을 사용하여 플라스마를 생성합니다. 이노바 (Inova) 는 또한 플라즈마 밀도를 제어하는 데 중점을 둔 선형 RF 발전기를 사용하지만, etch back 프로세스에서도 균일성을 제공합니다. 또한, NOVELLUS Inova에는 "플라즈마 드럼 (Plasma Drum)" 이 포함되어 있습니다. "플라즈마 드럼 (Plasma Drum)" 은 가공되는 기질의 전체 표면에 균일 한 플라즈마를 생성하는 임베디드 전극이있는 흑연 재료로 만들어진 혁신적인 장치입니다. 이를 통해 소스 레벨의 불균일성을 최소화하고 충전을 방지할 수 있습니다. 또한, 플라즈마 드럼 (Plasma Drum) 은 플라즈마 발전기 (Plasma Generator) 와 더미 전극 (dummy electrrode) 사이의 최적화 된 간격을 허용하여 높은 이온 에너지를 보장하고 더 나은 프로세스 결과를 산출합니다. 소프트웨어 측면에서 Inova는 몇 가지 기능을 사용하여 획일성을 향상시킵니다. 이러한 기능은 기판 표면을 모니터링하고 "플라즈마 '" 에너지' 출력을 조정하여 원하는 결과를 얻어 프로세스 제어를 최적화하도록 설계되었습니다. 또한 NOVELLUS Inova는 Endura 및 Kinetic Sputter Index 감지 기술을 활용하여 로컬 에치백 매개 변수를 정확하게 측정합니다. 실시간 및 오프라인 프로세스 제어의 조합을 통해, 이노바 (Inova) 는 모든 응용 프로그램에서 서브 미크론 정확성과 반복 성을 달성 할 수 있습니다. 결론적으로, NOVELLUS Inova는 ICP 기술을 기반으로하는 강력한 원자로이며, 다양한 응용 프로그램에 걸쳐 뛰어난 프로세스 균일성을 제공합니다. 고유한 하드웨어 및 소프트웨어 기능을 갖춘 Inova는 etch back, descum 및 barrier metal 프로세스에 대한 탁월한 정확도, 정확도, 반복 가능성 및 변동성을 제공합니다.