판매용 중고 NOVELLUS Inova XT #9393590
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ID: 9393590
웨이퍼 크기: 12"
PVD System, 12"
BROOKS MAG7 Robot
NOVELLUS MC3 Module controller
PFEIFFER Turbo and controller
(3) CTI / HILEX / BROOKS Cryo pumps
(4) BROOKS FOUP Cassette wafer loaders
VAT Throttle valve and controller
ADVANCED ENERGY PDX 5000 RF Generator
ADVANCED ENERGY RFG 5500 RF Generator
MKS RF Generator
PVD Chamber
Preclean chamber
Right degas chamber
Left degas chamber
Sputter
Transfer module with dual blade
Dual brooks robot transfer
DC power supply
Qty / Part number / Make / Model / Description
(1) / PA07060 / TREK / - / Power supply
(2) / DCS80-13E / SORENSEN / - / DC Power supplies: 0-80 V, 0-13 A / 1000 W
(1) / CPW2870B10 / CPI / - / 27-251231-00 DC Sputtering power supply
(1) / 3155051-015A / ADVANCED ENERGY / RFG 5500 / M/N: 3155051-015A RF Generator
(1) / 684-1 / TREK / - / NOVELLUS R19-137359-00, 416092, ESC Power supply: 6 Phase
(1) / RPG-50 / MKS / ENI / RPG-50A / Bipolar pulsed DC Generator
(1) / 27-156757-00 / ADVANCED ENERGY / PDX 5000 / RF Generator, M/N: 3156043-204
(1) / 03-12785-00 / NOVELLUS / - / 02-128733-00 PVD Assy SIOC Controller
(1) / 02-288084-00 / NOVELLUS / - / WTS-HV Sesioc 0, Rev.A
(1) / 02-271697-00 / NOVELLUS / - / WTS-HV Sesioc 3 IXT, Rev.A
(1) / 02-266875-00 / NOVELLUS / - / 02-266875-00 4 IXT WTS HV 4
(1) / 02-253704-00 / NOVELLUS / - / ASSY MC3E Controller with Ethernet 75-261867-00
(1) / 02-257935-00 / NOVELLUS / - / MC3E Platform controller with Ethernet 79-257795-00
(2) / 651D-16202 / MKS / - / Throttle valve controllers
(1) / TMH 071 P / PFEIFFER / BALZERS / - / Turbomolecular
(1) / 02112-BA24-APN1/0022 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-290319
(1) / 02112-BA24-APN1/0017 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-276468
(1) / 02112-BA24-APN1/0018 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-276468
(1) / 02112-BA24-APN1/0002 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-335571
(1) / 02112-BA24-APN1/0008 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-276468
(1) / 02112-BA24-APN1/0016 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-276468
(1) / 02112-BA24-APN1/0024 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-290319
(1) / 02112-BA24-APN1/0019 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-288644
(1) / 02112-BA24-APN1/0004 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-276468
(1) / 02112-BA24-APN1/0002 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-276468
(1) / 02112-BA24-APN1/0434 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-529666
(1) / 02112-BA24-APN1/0023 / VAT / - / Rectangular gate valve pneumatic actuator A-290319
(1) / - / PFEIFFER / TMU521P / PM P03 120H, PM P03 120 C with TC750-E74, PM C01 712, Turbo pump
(1) / - / PFEIFFER / TMU521P / PM P03 855 with TC750 Special DS15, PM C01 711, Turbo pump
(1) / - / PFEIFFER / TMH 071 P/ Turbomolecular pump with TC750-E74, PM C01 712
(1) / 8116079G001 / CTI-CRYOGENICS / - / Cryo pump, HELIX Control sputtering
(1) / 14036-PE24-0004 / VAT / - / Gate valve 14036-PE24-0004
(1) / 003-1600-25 / BROOKS / Magmatran 7 / Wafer transfer robot
(1) / 002-7090-03 / BROOKS / - / Wafer transfer robot
(1) / - / PFEIFFER / TMU 1001 P / Turbo pump PM P02 875, DN 200CF-F, 3P With TC-750 SPECIAL DS15 PMC01 711
(1) 27-265775-00 / NOVELLUS / AE Mercury 3013 Match, 3150274-009.
NOVELLUS Inova XT는 차세대 장치 제작을 위해 설계된 멀티 챔버 반도체 처리 장비입니다. 이 시스템에는 3 개의 화학적으로 분리 된 챔버 (각각 별도의 프로세스 모듈 포함) 가 장착되어 있으며, 이는 모든 응용 프로그램의 특정 요구 사항을 충족하도록 구성 될 수 있습니다. 이 제품은 우수한 열 처리, 에치 (etch), 증착 (deposition) 및 클린 (clean) 응용 프로그램을 갖추고 있으며 모두 교차 오염의 위험이 최소화됩니다. Inova XT의 첫 번째 챔버는 증착 과정에 전념합니다. 여기에는 혈장 강화 화학 증발 (PECVD), 원자층 증착 (ALD) 또는 물리적 증착 (PVD) 이 포함됩니다. 이 챔버는 또한 드라이 에칭을 위해 Chemi-Etch ™ 또는 스프레이 프로세스를 사용할 수 있습니다. 또한 다양한 소스 재료와 호환되며, 유연성을 통해 유전체, 금속, 장벽 및 3 차원 (3D) 증착과 같은 응용 프로그램에 사용할 수 있습니다. 두 번째와 세 번째 챔버는 모두 에치 프로세스에 사용됩니다. 두 번째 챔버는 얕은 트렌치 분리 및 실리콘 (STI/LOCOS) 에칭 공정의 국소 산화를 위해 특별히 설계되었습니다. NOVELLUS Inova XT는 에치 깊이를 정확하게 제어하도록 설계되었으며, 최소 입자 생성을 위해 광범위한 프로세스 가스, 가변 RF 출력 및 직접 다운 웨이퍼 센싱으로 전송 기능을 제공합니다. 세 번째 챔버는 또한 이온화 된 클러스터 빔 (ICB) 과 반응성 이온 에칭 (RIE) 을 모두 사용하여 건식 에칭 프로세스를 수행 할 수 있습니다. 여러 금속, 유전체 및 기타 재료에 대한 정밀 에치 프로세스를 제공합니다. Inova XT는 고급 프로세스 엔지니어링 소프트웨어로 고정밀 프로세스 제어를 제공합니다. 이 자동 장치는 가스 흐름, 온도, 압력, 전원 수준 및 기타 매개변수를 실시간으로 추적 할 수 있습니다. 또한 빠른 처리 시간, 강력한 제어, 오류 모니터링, 내장 안전 경고, 자동 시스템 종료 (Automatic Machine Shutdown) 등의 안정성 및 안전 기능이 장착되어 있어 고품질 최종 제품이 보장됩니다. 전반적으로 NOVELLUS Inova XT는 고급 반도체 처리 응용 프로그램을 위해 특별히 제작 된 강력하고 신뢰할 수있는 도구입니다. 다중 챔버 아키텍처 (multiple-chamber architecture) 와 광범위한 증착과 에치 (etch) 기능을 통해 다양한 애플리케이션에 이상적인 선택이 가능합니다. 고급 프로세스 소프트웨어 (process software) 와 안전 (safety) 기능을 통해 모든 사용자가 최대의 결과를 얻고자 하는 안정적이고 경제적인 솔루션이 될 수 있습니다.
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