판매용 중고 NOVELLUS Inova XT #293757055
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ID: 293757055
웨이퍼 크기: 12"
PVD System, 12"
Mainframe
EFEM
(6) Chambers
(4) AC Racks
(14) RF Racks
Power rack.
NOVELLUS Inova XT 원자로는 고전적인 CVD 작동뿐만 아니라 고급 질화물 증착 공정을 제공하도록 설계된 고급 증착 도구입니다. 이 장비는 높은 생산성, 정밀한 균일성, 그리고 확장된 프로세스 유연성과 동시에 작동할 수 있는 기능을 결합합니다. 이 시스템은 고급 질화물 증착 기능이있는 입증 된 증착 기술을 기반으로합니다. Inova XT 원자로는 질화물 재료 사용을 포함하여 고급 증착 공정이 필요한 고급 실리콘 기반 반도체 장치 제조업체를 위해 특별히 설계되었습니다. 높은 처리량과 정확한 균일성 (unifority) 을 갖춘 이 장치는 연속적이고 고품질의 프로세스를 보장하며, 증착 가변성 (deposition variability) 및 기타 시스템 성능 저하를 방지하여 제품 성능 저하를 초래합니다. NOVELLUS Inova XT 원자로에는 "사이클 (cycles)" 로 알려진 효율적인 빠른 프로세스주기를 만들기 위해 설계된 "세그먼트 (segments)" 라고하는 4 개의 독립적 인 프로세스 모듈이 장착되어 있습니다. 이 세그먼트를 사용하면 프로세스 주기 전반에 걸쳐 동시 작업 (simultaneous operation) 을 수행할 수 있으며, 이를 통해 지정된 프로세스에 필요한 전체 증착 시간을 줄일 수 있습니다. 이렇게 하면, 주기가 짧은 대규모 운영 볼륨에 공구를 사용할 수 있습니다. Inova XT 자산은 후면 적재, 중앙 위치 단일 웨이퍼 로더/언로더 (SAW) 모델을 갖춘 수많은 챔버 원자로로, 한 번에 최대 200 개의 웨이퍼를 처리 할 수 있습니다. 이 장비의 듀얼 필러 시프터 설계는 웨이퍼 전송 지연과 관련된 모듈 다운타임을 제거합니다. 이 시스템에는 최대 8 개의 흐름 채널을 갖춘 자동화된 가스 제어 장치 (gas-control unit) 가 있어 원하는 프로세스 결과를 달성하기 위해 유연성이 향상되었습니다. 이 기계는 750 ° C의 높은 온도에서 일관된 공정 결과를 생성 할 수 있습니다. 광범위한 재료 공정 요구 사항을 충족하기 위해 다양한 공정 가스 (process-gas) 전달 시스템을 사용할 수 있습니다. 또한 NOVELLUS Inova XT 원자로는 wafer de-scumming 기능과 wafer wash 기능을 포함한 고급 웨이퍼 청소 기능으로 설계되었습니다. 또한 이 도구에는 전체 웨이퍼에 걸쳐 반복 가능한 균일성을 보장하기 위해 내장 필름 두께 모니터가 내장되어 있습니다. 이렇게 하면 각 주기 점에서 증착 프로세스를 유지 및 문서화할 수 있습니다. Inova XT 원자로는 또한 RT 또는 전처리 및 후처리 조건에서 프로세스 생산량을 추가로 최적화하는 데 사용되는 EPM (Enhanced Process Monitor) 과 함께 제공됩니다. 전반적으로, NOVELLUS Inova XT 원자로는 다양한 고급 질화물 증착 공정을 제공하기 위해 설계된 고급 증착 도구입니다. 4 개의 독립적 인 프로세스 모듈, 고온 처리 범위 및 자동 가스 제어 자산 (Automated Gas Control Asset) 이 장착 된이 모델은 고급 실리콘 기반 반도체 장치의 증착을위한 유연하고 안정적인 솔루션을 제공합니다. 이 장비의 기능은 많은 운영 애플리케이션에서 선호되는 선택입니다.
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