판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT One #9148238

NOVELLUS CONCEPT One 원자로는 반도체 생산을 향상시키기 위해 만들어진 혁신적인 새로운 장치입니다. PVD (Physical Vapor Deposition) 원자로는 기존 시스템에 비해 제어가 향상되고 공정 정확도가 상당히 높습니다. 원자로의 다중 챔버 디자인은 챔버 본체 (chamber main body), 회전 기판 히터 (rotary 기판 히터) 및 가열 된 뚜껑을 특징으로하여 전체 반응에서 일관된 온도를 보장합니다. NOVELLUS CONCEPT ONE 원자로의 본체는 슬롯 인 플래튼 (slot-in platen) 과 로더/언로더로 구성된 통합 웨이퍼 처리 시스템을 갖추고 있어 웨이퍼의 빠르고 정확한 로딩 및 언로드를 보장합니다. 또한 platen의 위치 제어를 통해 정확한 증착 과정을 보장합니다. 회전 기판 히터 (rotary 기판 히터) 는 열 충격을 웨이퍼로 제한하여 공정 반복 성을 높이고 증착 과정을 더 잘 제어하도록 설계되었습니다. 가열 된 뚜껑은 챔버의 열 길이에 걸쳐 4 개의 독립적 인 온도 영역을 제공합니다. 각 존 (Zone) 은 프로세스 유연성과 웨이퍼의 가열 (heating) 을 정확하게 관리하는 기능을 위해 독립적으로 작동할 수 있습니다. 가열 된 뚜껑은 또한 챔버 (chamber) 내부의 열 질량을 크게 감소시켜, 빠르고 심지어 내부 온도 상승을 초래합니다. CONCEPT One 원자로는 플래튼 (platen) 및 기질 관련 온도의 직접 온도 측정 및 제어를 제공하도록 설계되었습니다. 이것은보다 정확하고 반복 가능한 증착 과정을 보장합니다. 이 고급 제어 시스템은 또한 챔버 압력, 스퍼터링 전류, RF 전원 및 RF 일치와 같은 광범위한 제어 매개변수를 가능하게합니다. 이는 높은 수준의 프로세스 반복성과 신뢰성을 보장합니다. CONCEPT ONE 원자로는 전례없는 프로세스 제어 및 정확성을 제공하는 매우 고급 PVD 시스템입니다. NOVELLUS CONCEPT One 원자로는 다중 챔버 설계, 독립 온도 영역, 직접 온도 측정, 광범위한 제어 매개변수 (Control Parameter) 를 통해 생산 라인의 효율성을 크게 향상시키려는 모든 사람에게는 브레너가 없습니다.