판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT One #9096032

노벨 러스 컨셉 원 (NOVELLUS CONCEPT One) 은 반도체 제조 환경 내에서 더 빠르고 효율적인 웨이퍼 처리를 가능하게하도록 설계된 차세대 에치 (etch) 원자로입니다. 이 제품은 제품 제조업체가 생산성을 확장하는 한편, 비용 절감 효과를 제공하는 혁신적인 프로세스 (process) 기능을 갖추고 있습니다. 노벨 루스 컨셉 원 (NOVELLUS CONCEPT ONE) 은 물리적, 화학적, 생물학적 성분의 새로운 조합을 사용하여 동급 최고의 에치 레이트 성능을 달성합니다. 원자로 핵심에는 에치 레이트 (etch rate) 를 구동하고 프로세스 성능을 최적화하기 위해 고급 초고밀도 플라즈마 (UHDP) 를 형성하는 초박막 (ultra-thin film) 과 마이크로 구조 (micro-structure) 의 혁신적인 조합이 있습니다. 고급 에치 프로세스 (Advanced Etch Process) 는 기존의 에치 프로세스와 비교하여 탁월한 정밀도, 선택성, 재현성을 제공하여 고객의 생산시간 및 전체 프로세스 시간을 단축할 수 있습니다. 원자로는 또한 독특한 로봇 암 (robotic arm) 디자인을 특징으로하며, 웨이퍼 처리 장비의 직접적이고 정확한 작동과 자동 웨이퍼 검사가 가능합니다. 이 고급 웨이퍼 처리 기능을 통해 프로세스를 완벽하게 제어할 수 있으며, 웨이퍼 (wafer) 당 비용을 대폭 절감할 수 있습니다. 컨셉트 원 (CONCEPT One) 은 또한 균일 한 가스 분포 및 가스 흐름 제어를 독점적으로 조합하여 프로세스 반복성과 신뢰성을 더욱 보장합니다. 이 독특한 가스 분포 시스템 (Gas Distribution System) 은 고급 기하학 (Advanced Geometries) 을 사용하여 에친트 (etchant) 를 균일하게 전달하고 가스를 처리하여 에치 속도와 프로세스 조건을 신속하게 최적화 할 수 있습니다. 마지막으로 CONCEPT ONE은 포스트 프로세싱에 대한 새로운 접근 방식을 특징으로합니다. 통합 사후 처리 기능을 통해 추가 프로세스를 에치 사이클 (etch cycle) 에 빠르고 쉽게 통합할 수 있으며, 이를 통해 클리닝, PVD, PVD, 에칭 등의 조합 프로세스가 가능합니다. 이 고급 사후 처리 기능을 통해 프로세스 시간 단축, 웨이퍼 품질 향상, 상당한 비용 절감 효과를 얻을 수 있습니다. 요약하자면, NOVELLUS CONCEPT One은 신뢰성이 높은 고성능 에치 (etch) 원자로로서 처리량을 높이고, 주기 시간을 단축하며, 비용을 크게 절감할 수 있습니다. 초고밀도 플라즈마 (Plasma), 로봇 암 (Robotic Arm), 균일 가스 분배 (Uniform Gas Distribution) 및 고급 후처리 기능을 활용함으로써, 제조업체에게는 지속적으로 발전하는 반도체 시장에서 생산성을 확장하고 경쟁력을 유지하는 데 필요한 도구를 제공합니다.