판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT One-200 #9284358

NOVELLUS CONCEPT One-200은 반도체 생산 시장을 대상으로하는 고 생산성 PECVD (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) 원자로입니다. 기존의 PECVD에 비해 더 나은 영화 균일 성을 생산하기 위해 특허를받은 플라즈마 소스를 사용하는 것이 특징입니다. 이것은 대칭 이중 샤워 헤드 전극 설계의 활용을 통해 달성되며, 이는 반응 챔버 내에 플라즈마를 균등하게 분포시킨다. 이 효율적인 플라즈마 분포는 단일 런에서 10Å에서 10,000Å의 나노 박막 (nano-thin film) 의 일반적인 두께로 증착률을 높이고 고품질의 등각 코팅을 제공합니다. CONCEPT One-200 (CONCEPT One-200) 은 고급 챔버 설계를 통해 공정의 기판 액세스 및 균일성을 극대화합니다. 챔버에는 대형 직사각형 RF 전극이 있으며, 이는 4 개의 고주파 샤워 헤드 전극과 함께 플라즈마를 균등하게 분산시키는 전기장을 만듭니다. 유지 보수 친화적 인 밀봉 챔버 설계로 챔버 청소가 쉽습니다. NOVELLUS CONCEPT One-200의 고급 기능은 플라즈마 강화 장비의 장점을 뛰어넘습니다. 직관적인 컨트롤과 모듈식 (modular) 설계를 통해 사용자 친화적 (user-friendly) 으로 설계되었으며, 사용자가 애플리케이션 요구에 맞게 원자로 (reactor) 를 사용자 정의할 수 있습니다. 이 시스템은 또한 광범위한 전력 제어 (power control) 기능을 제공하여 사용자 요구사항에 따라 최적의 유전층 (dielectric layer) 형성을 가능하게 합니다. 또한, CONCEPT One-200은 매우 안정적이며, 제조업체는 백만 회의 예금 주기의 성능 보증이 제공됩니다. 즉, 고객은 시스템을 통해 가장 안정적이고 효율적으로 생산할 수 있습니다. NOVELLUS CONCEPT One-200 은 반도체 생산 응용프로그램을 위한 강력하고 효율적인 솔루션을 제공하며, 증착 공정에 대한 제어가 강화되고, 균일성이 향상되며, 처리량이 증가합니다. 간단히 말해서, CONCEPT One-200은 모든 반도체 생산 실험실을위한 귀중한 도구이며, 경제적인 가격에 뛰어난 품질과 성능을 제공합니다.