판매용 중고 NOVELLUS CONCEPT One-200 #293760904

ID: 293760904
웨이퍼 크기: 8"
PECVD System, 8" Process: TEOS Material: Aluminum PSG (2) 2000 Porters (3) 1660 (2) HORIBA / STEC 500 EDWARDS iXH1210 Dry pump EDWARDS iQDP80 Dry pump EDWARDS Atlas Abatement system.
LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-200은 NOVELLUS Corporation과 LAM RESEARCH Systems, Inc.의 기술 전문 기술을 결합하여 박막 증착 응용 분야에서 탁월한 성능을 제공하는 최첨단 원자로 장비입니다. 이 고급 원자로는 반도체 제조 공정, 특히 집적 회로 (integrated circuit) 및 기타 전자 부품 생산에 사용하기 위해 설계되었습니다. NOVELLUS CONCEPT One-200 원자로의 중심에는 혁신적인 챔버 디자인이 있으며, 이를 통해 증착 과정을 정확하게 제어 할 수 있습니다. 원자로 챔버 (Reactor Chamber) 에는 최첨단 온도 및 압력 제어 시스템 (Pressure Control System) 과 기판 표면에 균일 한 필름 강착을 보장하는 다양한 가스 전달 및 배기 시스템이 장착되어 있습니다. 이 수준의 제어는 고급 반도체 응용프로그램에 필요한 높은 수준의 두께의 균일성 (unifority) 과 필름 품질 (film quality) 을 달성하는 데 필수적입니다. LAM RESEARCH CONCEPT One-200 원자로의 주요 특징 중 하나는 고급 플라즈마 기술입니다. 원자로에는 고밀도 플라즈마 소스 (plasma source) 가 장착되어 챔버 내에서 매우 효율적이고 균일 한 플라즈마 생성을 가능하게한다. 이 플라즈마 소스는 필름 증착 프로세스 향상, 필름 특성 개선, 프로세스 효율성 최적화에 중요합니다. 또한, 원자로에는 플라즈마 에너지 수준을 정확하게 제어 할 수있는 고급 RF (무선 주파수) 전력 공급 시스템 (Power Delivery System) 이 장착되어 증착 과정을 더욱 강화합니다. CONCEPT One-200 원자로는 또한 다양한 공정 가스를 챔버에 정확하게 혼합 및 전달 할 수있는 정교한 가스 전달 시스템 (gas delivery system) 을 갖추고 있습니다. 이 단위를 통해 사용자는 증착 과정 (deposition process) 을 특정 요구 사항에 맞게 조정할 수 있으며, 이는 필름 특성 (film properties) 에 대한 뛰어난 제어를 통해 광범위한 박막 재료를 증착할 수 있습니다. 원자로는 실란, 6 불화 텅스텐, 반도체 제조에 사용되는 다른 일반적인 물질을 포함한 다양한 전구체 가스와 호환된다. LAM RESEARCH/NOVELLUS CONCEPT One-200 원자로는 고급 처리 기능 외에도 사용 편의성과 유지 관리를 위해 설계되었습니다. 원자로실 (reactor chamber) 은 청소 및 유지 보수용으로 쉽게 액세스할 수 있으며, 기계에는 고급 진단/모니터링 (diagnostics and monitoring) 도구가 장착되어 있어 작업 중에 발생할 수 있는 문제를 신속하게 파악하고 해결할 수 있습니다. 이를 통해 NOVELLUS CONCEPT One-200 원자로를 사용하는 반도체 제조 시설의 가동 시간과 생산성을 극대화할 수 있습니다. 전반적으로 LAM RESEARCH CONCEPT One-200 원자로는 박막 증착 기술의 상당한 발전을 나타냅니다. 혁신적인 디자인, 고급 플라즈마 (Plasma) 기술, 정밀 제어 시스템은 고급 전자 장치를 위한 고품질의 박막 (Thin Film) 증착을 추구하는 반도체 제조업체에 이상적인 솔루션입니다. 탁월한 성능, 사용 편이성, 신뢰성을 갖춘 CONCEPT One-200 원자로는 반도체 업계의 차세대 기술을 추구하는 핵심 자산으로 자리매김할 수 있습니다 (영문).
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