판매용 중고 NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT #9390429

NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT 원자로는 영화 증착 응용 프로그램을 위해 설계된 고급 고 처리량 증착 시스템입니다. 이 제품은 단일 웨이퍼 (single-wafer) 에서부터 전체 웨이퍼 (full-wafer) 증착 (deposition) 에 이르기까지 다양한 구성을 가능하게 하며 다양한 고객 프로세스 요구에 맞게 조정할 수 있는 모듈식 및 확장 가능한 아키텍처를 갖추고 있습니다. 이 시스템은 두께 균일성 (thickness unifority) 및 반복성 (repeatability) 을 포함하여 필름 특성의 뛰어난 균일성을 위해 설계되었으며, 모든 기판 유형에 걸쳐 레이어 간 일관성과 웨이퍼 간 일관성을 제공합니다. Concept 3 Speed NEXT (Concept 3 Speed NEXT) 는 업계 최고의 처리량 프로세스 챔버로 기존 시스템에 비해 최고 4 배 향상된 속도와 용량을 제공합니다. 수직 리프트 공정 챔버 (vertical lift process chamber) 와 탑재 된 고급 웨이퍼 형상 모듈 (enhanced wafer geometry module) 을 사용하며, 둘 다 높은 증착율로 균일 한 박막 성능을 달성 할 수 있습니다. 특허를받은 DAC (Dynamic Activity Control) 기술은 모든 웨이퍼 크기에서 속도와 균일성을 더욱 향상시킵니다. 사용자 친화적 인 고급 플랫폼 인 NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT (NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT) 는 직관적 인 인터페이스를 제공하며, 이를 통해 원자로를 쉽게 구성하고 제어할 수 있습니다. Concept 3 Speed NEXT (Concept 3 Speed NEXT) 는 또한 엄격한 사이버 보안 프로토콜을 통해 작동할 수 있는 안전한 플랫폼으로, 향후 시스템 업데이트를 위해 더 많은 고객 및 프로세스 데이터를 액세스할 수 있습니다. 전반적으로 NOVELLUS Concept 3 Speed NEXT는 뛰어난 필름 균일성과 반복성이 필요한 높은 처리량 증착 애플리케이션에 이상적인 원자로입니다. 업계 최고의 성능과 처리량을 제공하는 효율적인 수직 프로세스 챔버 (Vertical Process Chamber), 향상된 웨이퍼 형상 (Wafer Geometry), 가속 속도 (Accelerated Speed) 및 안전한 데이터 분석 기능을 제공합니다.