판매용 중고 NOVELLUS Concept 3 Altus #9248122

NOVELLUS Concept 3 Altus는 고급 반도체 제조에서 다양한 응용 분야를 위해 설계된 고급의 차세대 에치 (etch) 원자로입니다. 원자로는 하드웨어와 소프트웨어를 모두 활용하여 에칭 (etching) 프로세스의 정확성과 처리량을 극대화합니다. 핵심에서 Concept 3 Altus는 단일 대형 3 존 이중 플라즈마 토치 디자인을 사용합니다. 이 구성은 전구체 처리량 향상, 증착률 향상, 기판 전체의 균일성 향상 등 다양한 이점을 제공합니다. 이 토치는 전력 효율성 향상에 최적화되었으며, 에칭 (etching) 애플리케이션에서 높은 처리량을 달성할 수 있습니다. 또한, 3 개의 존 (zone) 을 사용하면 전체 기판에 더 많은 범위의 전력 수준을 적용할 수 있습니다. 원자로는 3 단계 플라즈마 에칭 공정을 사용하도록 설계되었습니다. 첫째, 원자로는 에칭 공정으로 인한 기질의 손상을 최소화하는 폴리머 층 (polymer layer) 으로 기판을 미리 코팅한다. 둘째, 원자로는 기판 위에, 그리고 기본 층에 고출력 플라즈마 스텝을 적용한다. 마지막으로, 원자로는 빠른 등방성 에칭이 발생함으로써 에칭 과정을 마칩니다. 최적의 에칭 성능을 위해 NOVELLUS Concept 3 Altus는 "QChamber" 라는 특수 컴퓨터 소프트웨어를 사용할 수 있습니다. 이 소프트웨어는 플라즈마 조건에 대한 자세한 분석을 통해 각 에칭 프로세스를 최적화하고 에치 프로파일 (etch profile) 을 분석하는 특수 단면 이미징 기술을 포함합니다. 또한 QChamber를 사용하면 코딩 및 증착률, 크로스 오버 감지, 아크 중단 등 여러 프로세스 수준을 모니터링할 수 있습니다. QChamber 외에도 Concept 3 Altus는 다른 프로세스 제어 시스템과 통합 될 수 있습니다. 이를 통해 에칭 프로세스 동안 더 많은 사용자 정의 및 더 많은 정밀도를 사용할 수 있습니다. 또한 PiP (process-in-place) 클리닝과 같은 고급 기능을 사용할 수 있으므로 각 에칭 실행의 효율성이 향상됩니다. NOVELLUS Concept 3 Altus는 현대 반도체 제조업체를위한 강력한 도구입니다. 에칭 (etching) 및 기타 프로세스 (production chain) 에 필수적인 고급 수준의 정밀도 및 제어 기능을 제공합니다. 강력한 하드웨어, 고급 소프트웨어, 업계 최고의 기능을 갖춘 Concept 3 Altus는 강력한 성능을 갖추고 있으며, 모든 Chipmaker와의 경쟁 우위를 확보하고 있습니다.