판매용 중고 NOVELLUS Concept 3 Altus Max #293802355

NOVELLUS Concept 3 Altus Max
ID: 293802355
WCVD System.
NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactor는 가장 고급 반도체 장치 제작 프로세스를 위해 설계된 고효율 프로세스 도구입니다. 고성능 집적 회로 제조에 사용됩니다. 컨셉트 3 알투스 맥스 리액터 (Concept 3 Altus Max Reactor) 는 일종 도구로서, 고급 통합 프로세스 자동화 및 제어로 생산성과 처리량을 극대화하여 탁월한 생산량을 제공합니다. NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactor는 화학 증기 증착 (CVD) 공정을 사용하여 균일성을 가진 정확한 필름 두께를 나노 미터 수준에 배치합니다. 원자로 설계는 고속 펄싱 (pulsing), 핫월 처리 (hot-wall processing) 및 낮은 침투 기술을 사용하여 공정 시간을 줄이고 불필요한 웨이퍼 처리를 제거합니다. 또한, 이 시스템은 다운타임을 최소화하면서 반복 가능한 제조 작업 (repeatable manufacturing operations) 을 통해 고품질 장치를 생산할 수 있습니다. 컨셉 3 알투스 맥스 반응기 (Concept 3 Altus Max Reactor) 에는 넓은 가변 측면 벽 높이가 장착되어 있으며, 동시에 대형 및 소규모 기판이 가능합니다. 가변 측면 높이는 또한 개선 된 필름 증착률을 위해 플라즈마 생산량을 증가시킵니다. 원자로 아키텍처는 또한 조절 가능한 소스, 조절 가능한 압력, 조절 가능한 온도로 뛰어난 공정 제어를 제공합니다. 이 과정은 또한 수술 전후를 통해 불순물로부터 보호됩니다. NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactor의 통합 프로세스 자동화 및 제어는 포괄적인 온라인 데이터 로깅, 실시간 피드백, 자동 수정 등 다양한 운영 옵션을 제공합니다. 고급 프로세스 제어는 예측 분석 및 자동 사이클 매핑으로 향상됩니다. 이러한 모든 기능을 통해 더욱 신속한 웨이퍼 처리, 에너지 비용 절감, 생산 시간 최소화 등의 이점을 누릴 수 있습니다. Concept 3 Altus Max Reactor는 200 - 500mm 웨이퍼를 향상된 속도로 처리하고 일관되고 반복 가능한 프로세스 결과를 제공하는 고급 기술 노드를 위해 설계되었습니다. 이 도구는 실리케이트, 산화물 등의 여러 재료를 실행할 수 있으며, 향상된 필름 증착을 위해 통합 된 RF 전력 제어를 제공합니다. 결론적으로, 높은 처리량, 우수한 프로세스 자동화 및 제어, 유연성 NOVELLUS Concept 3 Altus Max Reactor는 최고의 반도체 프로세스 제작에 적합한 선택입니다.
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